Charakterisierung supraleitender Flux-Flow-Oszillatoren für den Einsatz als Lokaloszillatoren in SIS-Heterodynempfängern:
Gespeichert in:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1999
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| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | 149 S. Ill., graph. Darst. : 21 cm |
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INHALTSVERZEICHNIS:
1
ZUSAMMENFASSUNG
.
3
2
EINLEITUNG
.
6
3
THEORETISCHE
GRUNDLAGEN
.
11
3.1
SUPRALEITUNG
.
11
3.2
SIS-TUNNELKONTAKTE
.
14
3.2.1
STROM-SPANNUNGSKENNLINIE
VON
SIS-TUNNELDIODEN
.
14
3.2.2
SIS-TUNNELKONTAKTE
ALS
HETERODYNMISCHER
.
16
3.3
JOSEPHSON-EFFEKTE
.
21
3.3.1
DC-UND
AC-JOSEPHSON-EFFEKT
.
21
3.3.2
ABHAENGIGKEIT
VON
EINEM
EXTERNEN
MAGNETFELD
.
23
3.4
FLUX-FLOW
OSZILLATOREN
.
26
3.4.1
WELLENGLEICHUNG
EINER
JOSEPHSON-JUNCTION
.
27
3.4.2
SOLITONEN
.
29
3.4.3
FLUX-FLOW
.
31
3.4.4
SELF-FIELD
EFFEKT
UND
OPTIMIERTE
BIASEINSPEISUNG
.
34
3.4.5
SELF-PUMPING
.
35
3.4.6
FFO-LINIENBREITE
.
36
4
FABRIKATION
MIKROSTRUKTURIERTER
SIS-SCHICHTEN
.
39
4.1
SCHICHTAUFBAU
DER
FLUX-FLOW
OSZILLATOREN
.
40
4.2
FABRIKATION
VON
FLUX-FLOW
OSZILLATOREN
UND
SIS-MISCHELEMENTEN
.
41
4.2.1
FOTOLACKSTRUKTURIERUNG
.
42
4.2.2
SPUTTERN
DES
TRILAYERS
UND
OXIDATION
DER
BARRIERE
.
43
4.2.3
JUNCTIONSTRUKTURIERUNG
DURCH
REAKTIVES
LONENAETZEN
(RIE)
.
44
4.2.4
ANODISCHE
OXIDATION
ZUR
KANTENISOLIERUNG
.
46
4.2.5
THERMISCHES
VERDAMPFEN
VON
SILIZIUMMONOXID
.
46
4.2.6
KATHODENZERSTAEUBUNG
DES
WIRINGS
.
47
4.2.7
BESONDERHEITEN
DES
ISI-PROZESSES
.
48
4.3
QUALITAETSKRITERIEN
FUER
TUNNELKONTAKTE
.
49
5
MESSAUFBAU
ZUR
FFO-CHARAKTERISIERUNG
.
50
5.1
DEWARAUFBAU
.
50
5.2
KOSMA
345GHZ
SIS-MISCHER
.
56
5.3
FFO-BIASVERSORGUNG
.
58
5.3.1
BATTERIEGESPEISTE
BIASBOX
.
58
5.3.2
ELEKTRONISCHE
BIASBOX
.
59
5.4
PC
MESSSYSTEM
.
60
6
ERSTE
FFO-MESSUNGEN
.
62
6.1
LAYOUT
DES
FFO-DEVICE
.
62
6.2
HOHLLEITERUMGEBUNG
.
63
6.3
DC-EIGENSCHAFTEN
DES
FLUX-FLOW
OSZILLATORS
.
65
6.4
MESSUNG
VON
FFO-LINIENBREITE
UND
STABILITAET
.
67
7
FFO-CHIP
MIT
VERBESSERTEM
HF-LAYOUT
.
71
7.1
NEUES
HF-LAYOUT
.
71
7.1.1
CAMBRIDGE
SIS-MISCHERDESIGN
.
71
7.1.2
LAYOUTMODIFIKATIONEN
FUER
DEN
FFO
.
73
7.1.3
HOHLLEITERUMGEBUNG
.
74
7.2
DC-EIGENSCHAFTEN
DES
FFO
.
77
7.3
MESSUNGEN
DER
FFO-STRAHLUNGSCHARAKTERISTIKEN
.
79
7.3.1
FFO-SIGNALSTAERKE
.
80
7.3.2
AUTONOMER
FFO
.
81
7.3.3
FREQUENZSTABILISIERTER
FFO
.
84
7.3.4
HARMONISCHES
PHASENSTABILISIEREN
.
90
8
ZEITAUFGELOESTE
MESSUNGEN
DES
FFO-LINIENPROFILS
.
93
8.1
ZEITAUFGELOESTE
SPEKTROSKOPIE
MIT
AKUSTO-OPTISCHEN
SPEKTROMETERN
.
93
8.2
MESSUNGEN
DER
INTRINSISCHE
LINIENBREITE
EINES
FFO
.
95
8.3
GROSSE
FFO-LINIENBREITEN
BEI
ZEITAUFGELOESTEN
MESSUNGEN
.
102
8.4
DISKUSSION
.
103
9
HOCHINTEGRIERTE
SUPRALEITENDE
HF-SCHALTKREISE
.
105
9.1
SIMULATION
SUPRALEITENDER
MIKROWELLENSCHALTKREISE
.
106
9.2
INTEGRIERTER
SPEKTROSKOPISCHER
CHIP
ZUR
FFO
CHARAKTERISIERUNG
.
109
9.2.1
HF-IMPEDANZANPASSUNG
VON
SIS-ELEMENTEN
.
111
9.2.2
HF-AUSLEGUNG
DES
FFO
.
114
9.2.3
DC-BREAKS
.
117
9.2.4
HOCH
UND
TIEFPASSFILTER
.
120
9.2.5
OPTIMIERUNG
DES
GESAMTLAYOUTS
.
121
9.3
LAYOUT
DER
FOTOMASKE
.
124
9.4
CHIPKONTAKTIERUNG
UND
SIGNALZUFIIHRUNG
.
126
9.5
ERSTE
DC-MESSUNGEN
.
128
9.6
LAYOUTSTUDIE
EINES
INTEGRIERTE
EMPFAENGERS
.
129
10
DISKUSSION
UND
AUSBLICK
.
133
11
LITERATURVERZEICHNIS
.
135
12
ANHANG
.
140
12.1
FABRIKATIONSTABELLE
F2S-MASKE
.
140
12.2
KONSTRUKTIONSZEICHNUNG
DER
FFO-HOHLLEITERUMGEBUNG
.
142
12.3
MICROWAVE
HARMONICAYY
SIMULATIONSPROGRAMM
.
144
13
DANKSAGUNG
.
149 |
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