Si front end processing - physics and technology of dopant defect interactions: symposium held April 6 - 9, 1999, San Francisco, California, U.S.A.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Warrendale, Pa. MRS, Materials Research Society 1999
Schriftenreihe:Materials Research Society symposia proceedings 568
Schlagworte:
Beschreibung:XI, 298 S. Ill., zahlr. graph. Darst.
ISBN:1558994750

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!