Diffusion in silicon: 10 years of research
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Zürich-Uetikon Scitec Publ. 1998
Schriftenreihe:Diffusion and defect data A, Defect and diffusion forum ; 153/155
Schlagworte:
Beschreibung:IV, 555 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:3908450292

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!