Silizium basierende Einzel-Elektronen-Transistoren:
Gespeichert in:
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Format: | Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Aachen
Shaker
1999
|
Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
Schriftenreihe: | Berichte aus der Halbleitertechnik
|
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
Beschreibung: | Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1999 |
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INHALTSVERZEICHNIS
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
XI
1
EINLEITUNG
1
2
GRUNDLEGENDE
ASPEKTE
5
2.1
THEORIE
DER
EINZEL-ELEKTRONEN-TRANSISTOREN
.
5
2.1.1
TUNNELKONTAKTE
.
6
2.1.2
BESCHREIBUNG
DURCH
DAS
RC-MODELL
.
7
2.1.3
HERLEITUNG
DER
TUNNELRATEN
.
10
2.1.3.1
AUFSTELLUNG
DES
HAMILTON
OPERATORS
.
10
2.1.3.2
STOERUNGSTHEORETISCHE
BERECHNUNG
DER
TUNNELRATEN
.
13
2.1.3.3
GRENZFAELLE
VERSCHWINDENDER
UND
GROSSER
IMPEDANZ
.
16
2.1.4
ANALYTISCHE
BERECHNUNG
DES
EINFACHEN
SETTS
.
17
2.1.5
MONTE-CARLO
ALGORITHMUS
ZUR
BERECHNUNG
VON
EINZEL-ELEKTRONEN
EFFEKTEN
.
18
2.1.6
SIMULATION
DER
ELEKTRODYNAMIK
VON
EINZEL-ELEKTRONEN-TRANSISTOREN
19
2.1.6.1
DER
EINFACHE
SETT
.
20
2.1.6.2
MULTITUNNEL-SETTS
.
23
2.2
DER
SILIZIUM
EINZEL-ELEKTRONEN-TRANSISTOR
.
26
2.2.1
SILIZIUM
ALS
AUSGANGSMATERIAL
.
26
2.2.1.1
BESONDERHEITEN
HOCH-DOTIERTEN
SILIZIUMS
.
28
2.2.1.2
SILIZIUM/SILIZIUMDIOXID-GRENZSCHICHT
.
30
2.2.2
URSACHEN
FUER
POTENTIALBARRIEREN
IN
MESOSKOPISCHEN
SI-STRUKTUREN
31
2.2.2.1
CONFINEMENT-BARRIEREN
.
31
2.2.2.2
POTENTIALFLUKTUATIONEN
AUFGRUND
DER
DOTIERSTOFFVERTEILUNG
33
2.2.3
DAS
RC-MODELL
ANGEWANDT
AUF
SI-SETTS
.
36
3
NANOTECHNOLOGIEN
39
3.1
STRUKTURDEFINITION
MITTELS
ELEKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE
.
39
3.2
STRUKTURUEBERTRAGUNG
DURCH
REAKTIVE
TROCKENAETZVERFAHREN
.
42
3.2.1
STANDARD
RIE-AETZVERFAHREN
.
42
3.2.2
ELEKTRON-ZYKLOTRON-RESONANZ
AETZVERFAHREN
.
44
3.3
PASSIVIERUNG
DURCH
TEMPERSCHRITTE
UND
SIO
2
-DEPOSITION
.
45
VIII
INHALTSVERZEICHNIS
3.3.1
RTP-VERFAHREN
.
46
3.3.2
NIEDERTEMPERATUR
OXID-DEPOSITION
.
46
4
KONZEPTE
49
4.1
METALLISCHE
EINZEL-ELEKTRONEN-TYANSISTOREN
.
49
4.1.1
SCHRAEGSCHATTEN-BEDAMPFUNGSTECHNIK
.
49
4.1.2
SAIL-VERFAHREN
.
51
4.1.3
LOKALE
OXIDATION
MITTELS
STM
.
52
4.1.4
SECO-VERFAHREN
.
53
4.2
EINZEL-ELEKTRONEN-TRANSISTOREN
AUF
SILIZIUMBASIS
.
54
4.2.1
STATISTISCHE
POTENTIALFLUKTUATIONEN
IN
NANODRAEHTEN
.
54
4.2.2
CONFINEMENT-BARRIEREN
.
56
4.2.3
POLYKRISTALLINES
SILIZIUM
.
58
4.3
EIGENES
KONZEPT
UND
LAYOUTS
.
59
4.3.1
HOCH
N-DOTIERTES
SOI-MATERIAL
.
60
4.3.2
HOMOGENE
NANOSTEGE
.
60
4.3.3
NANOSTEGE
MIT
ZUSAETZLICHEN
LOKALEN
LATERALEN
EINSCHNUERUNGEN
.
.
61
5
HERSTELLUNGSPROZESS
DER
EINZEL-ELEKTRONEN-TRANSISTOREN
63
5.1
AUSGANGSMATERIAL
BESOI
.
63
5.1.1
AUSDUENNUNG
UND
DOTIERUNG
DER
SI-TOPSCHICHT
.
64
5.1.2
EINKRISTALLINES
WACHSTUM
DUENNER
SI-TOPSCHICHTEN
.
65
5.2
DEFINITION
DER
TRANSISTOR-MESA
UND
DER
SILIZIUM
NANOSTRUKTUR
.
66
5.2.1
ZWEI-LAGEN-RESISTSYSTEM
.
66
5.2.2
HOECHSTAUFLOESENDE
ELEKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE
.
67
5.3
STRUKTURUEBERTRAGUNG
IN
DIE
SILIZIUM
TOPSCHICHT
.
69
5.3.1
STRUKTURIERUNG
DER
TITAN-ZWISCHENSCHICHT
.
69
5.3.2
ANISOTROPE
AETZUNG
DER
SI
TOPSCHICHT
.
70
5.4
PASSIVIERUNG
DER
BAUELEMENTE
.
71
5.5
REALISIERUNG
DER
KONTAKTEBENE
.
74
6
CHARAKTERISIERUNG
DER
BAUELEMENTE
UND
DISKUSSION
77
6.1
RAUSCHARME
TIEFTEMPERATUR-MESSTECHNIK
.
77
6.2
UNIFORME
SI-NANOSTEG-TRANSISTOREN
.
79
6.2.1
ERGEBNISSE
AN
MIT
2
X
10
19
CM
-3
PHOSPHOR
DOTIERTEN
TRANSISTOREN
80
INHALTSVERZEICHNIS
IX
6.2.1.1
CHARAKTERISTIK
DER
37
NM
SCHMALEN
NANOSTEGE
.
80
6.2.1.2
CHARAKTERISTIK
DER
26
NM
SCHMALEN
NANOSTEGE
.
83
6.2.2
ERGEBNISSE
AN
DEN
NANOSTEGEN
MIT
2
X
10
2O
CM~
3
PHOSPHORDOTIERUNG
88
6.2.3
MECHANISMUS
DER
BARRIERENBILDUNG
.
91
6.3
NANOSTEGE
MIT
LOKALEN
EINSCHNUERUNGEN
.
94
6.3.1
ERGEBNISSE
AUF
IMPLANTIERTEM
SILIZIUM
.
94
6.3.2
ERGEBNISSE
AUF
MBE-MATERIAL
.
100
6.3.3
DISKUSSION
DER
ERGEBNISSE
AN
INHOMOGENEN
NANOSTEGEN
MIT
LATE
RALEN
EINSCHNUERUNGEN
.
104
7
ZUSAMMENFASSUNG
107
8
AUSBLICK
111
LITERAT
URVERZEICHNISS
115
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