Neuartige Strukturierungsverfahren auf der Basis von Ionenimplantation für GaAs-Bauelementanwendungen:
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | Abschlussarbeit Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
1997
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INHALTSVERZEICHNIS
ZUSAMMENFASSUNG
1
1
EINLEITUNG
4
2
GRUNDLAGEN
ZUR
IONENIMPLANTATION
9
2.1
ABBREMSUNG
VON
IONEN
IN
AMORPHEN
FESTKOERPERN
.
9
2.2
LONGITUDINALE
UND
LATERALE
IONEN
UND
DEFEKTVERTEILUNG
.
14
2.3
IONENIMPLANTATION
IN
EINKRISTALLINEM
GAAS
.
19
2.3.1
CHANNELING
.
19
2.3.2
GRENZEN
DER
SIMULATION
.
23
2.3.3
ISOLATION
UND
DOTIERUNG
.
24
2.3.4
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
.
26
3
DOTIERUNG
MIT
SILICIUM-IONEN
28
3.1
SIMULATION
UND
MESSUNG
DES
DOTIERPROFILES
.
28
3.1.1
EXPERIMENTELLE
DURCHFUEHRUNG
.
28
3.1.2
LADUNGSTRAEGER-TIEFENPROFIL
.
31
3.2
AKTIVIERUNGSVERHALTEN
DER
SI-DOTIERUNG
.
33
3.2.1
EINFLUSS
DER
SCHUTZKAPPE
.
33
3.2.2
ABHAENGIGKEIT
VON
DER
AUSHEILTEMPERATUR
.
35
3.2.3
DISKUSSION
.
38
3.3
PHOTOLUMINESZENZMESSUNGEN
.
39
3.4
REALISIERUNG
NIEDRIGER
SCHICHTWIDERSTAENDE
.
42
3.5
ZUSAMMENFASSUNG
.
44
4
ISOLATION
MIT
SAUERSTOFF-IONEN
46
4.1
EXPERIMENTELLE
DURCHFUEHRUNG
.
46
4.2
ISOLATION
DURCH
KRISTALLSCHAEDIGUNG
.
51
4.3
ISOLATION
BEI
HOEHEREN
AUSHEILTEMPERATUREN
.
53
4.3.1
AUSWIRKUNG
VON
TEMPERATUR
UND
DOSIS
.
53
4.3.2
IMPLANTATION
VON
STICKSTOFF
UND
FLUOR
.
56
4.3.3
VERGLEICH
UNTERSCHIEDLICHER
AUSHEILMETHODEN
.
58
4.4
ELEKTRISCHE
UND
ELEKTRONISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
59
II
INHALTSVERZEICHNIS
4.4.1
MECHANISMEN
DES
STROMTRANSPORTES
.
59
4.4.2
LEITUNG
UEBER
DAS
SUBSTRAT
.
62
4.4.3
BESTIMMUNG
DER
AKTIVIERUNGSENERGIE
.
65
4.5
SAUERSTOFF-DEFEKTE
IM
GAAS-KRISTALL
.
68
4.5.1
TIEFENPROFIL
AUS
SEKUNDAERIONEN-MASSENSPEKTROMETRIE
.
68
4.5.2
KRISTALLSCHAEDIGUNG
AUS
RUECKSTREUSPEKTREN
.
70
4.5.3
CHARAKTERISIERUNG
MIT
RAMAN-SPEKTROSKOPIE
.
74
4.5.4
DEFEKTMODELL
AUS
IR-SPEKTROSKOPIE
LOKALER
SCHWINGUNGSMODEN
.
78
4.6
ZUSAMMENFASSUNG
.
83
5
ISOLATION
MIT
FOKUSSIERTEN
GALLIUM-IONEN
85
5.1
PROZESSTECHNOLOGIE
.
86
5.2
ELEKTRISCHES
ISOLATIONSVERHALTEN
.
89
5.2.1
ENERGIE
UND
DOSISABHAENGIGKEIT
.
90
5.2.2
EINFLUSS
VON
THERMISCHER
BEHANDLUNG
.
92
5.3
EINDRINGTIEFE
UND
DEFEKTVERTEILUNG
.
93
5.4
PLANARE
RESONANTE
TUNNELDIODEN
.
96
5.4.1
PROBENHERSTELLUNG
.
96
5.4.2
ELEKTRISCHE
CHARAKTERISIERUNG
.
97
5.4.3
LATERALE
ELEKTRONISCHE
VERARMUNG
.
99
5.5
ZUSAMMENFASSUNG
.
101
6
VERGRABENE
IMPLANTATIONEN
UND
BAUELEMENTANWENDUNGEN
102
6.1
HETEROSTRUKTUREN
AUF
MIT
SILICIUM
IMPLANTIERTEM
SUBSTRAT
.
102
6.1.1
OPTISCHE
CHARAKTERISIERUNG
DES
UEBERWACHSENEN
PM
HFET
.
.
.
103
6.1.2
ELEKTRISCHE
TRANSPORTPARAMETER
.
105
6.2
EPITAXIE
AUF
MIT
SAUERSTOFF
ISOLIERTEN
SCHICHTEN
.
107
6.2.1
UEBERWACHSEN
UND
IN-SITU-AKTIVIERUNG
MIT
MBE
.
107
6.2.2
CHARAKTERISIERUNG
VON
BAUELEMENTSCHICHTENFOLGEN
.
109
6.3
IN-SITU-PROZESS
MIT
MASKENLOSER
GALLIUM-IMPLANTATION
.
111
6.3.1
UNTERSUCHUNG
DER
WACHSTUMSGRENZFLAECHEN
MIT
SIMS
.
111
6.3.2
CHARAKTERISIERUNG
UEBERWACHSENER
PM
HFET
STRUKTUREN
.
115
6.4
HETERO-BIPOLARTRANSISTOREN
MIT
OBEN
LIEGENDEM
KOLLEKTOR
.
116
SYMBOLE
UND
ABKUERZUNGEN
I
LITERATURVERZEICHNIS
III
DANKSAGUNG
XX
LEBENSLAUF
XXII |
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