Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop: Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze
Gespeichert in:
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Format: | Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Bremerhaven
Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss.
1997
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Schriftenreihe: | Physikalisch-Technische Bundesanstalt <Braunschweig>: [PTB-Bericht / Abteilung Optik]
55 |
Schlagworte: | |
Beschreibung: | Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997 |
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