Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop: Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Czaske, Martin 1959- (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Bremerhaven Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss. 1997
Schriftenreihe:Physikalisch-Technische Bundesanstalt <Braunschweig>: [PTB-Bericht / Abteilung Optik] 55
Schlagworte:
Beschreibung:Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 1997
Beschreibung:II, 150 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:3897010119

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