Herstellung und Charakterisierung von supraleitenden diffusionsgekühlten Hot-Electron-Bolometern für Terahertz-Heterodynmischer:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
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1997
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INHALTSVERZEICHNIS
0
ZUSAMMENFASSUNG
1
1
EINLEITUNG
3
2
SUPRALEITENDE
HOT-ELECTRON-BOLOMETER
6
2.1
VERSCHIEDENE
BOLOMETERTYPEN
.
8
2.1.1
PRINZIP
EINES
BOLOMETERS
.
8
2.1.2
HOT-ELECTRON-BOLOMETER
.
9
2.1.3
SUPRALEITENDE
HOT-ELECTRON-BOLOMETER
.
10
2.2
BOLOMETER
ALS
HETERODYNMISCHER
.
11
2.3
KUEHLUNG
DER
HOT-ELECTRONS
.
13
2.3.1
SUPRALEITENDE
DIFFUSIONSGEKUEHLTE
HOT-ELECTRON-BOLOMETER
.
14
2.3.2
SUPRALEITENDE
PHONONGEKUEHLTE
HOT-ELECTRON-BOLOMETER
.
19
2.4
DIE
STROM-SPANNUNGS-KENNLINIE
.
21
2.4.1
HYSTERESE
DER
KENNLINIE
.
21
2.4.2
VARIATION
DER
KENNLINIE
DURCH
TEMPERATURAENDERUNG
.
22
2.4.3
VARIATION
DER
KENNLINIE
DURCH
HOCHFREQUENZEINSTRAHLUNG
.
24
2.5
DER
RESISTIVE
ZUSTAND
.
24
2.5.1
NORMALLEITENDE
DOMAENEN
UND
HOTSPOTS
.
25
2.5.2
PHASENSCHLUPFZENTREN
.
25
2.5.3
FLUSSSCHLAUCHWANDERUNGEN
.
26
2.5.4
AUFTRETEN
DER
UNTERSCHIEDLICHEN
PHAENOMENE
.
26
2.6
MISCHEREIGENSCHAFTEN
.
27
2.6.1
DER
KONVERSIONSGEWINN
DES
MISCHERS
.
27
2.6.2
DIE
VERSCHIEDENEN
RAUSCHBEITRAEGE
DES
HEBS
.
29
II
INHALTSVERZEICHNIS
2.6.3
DIE
MISCHEREINGANGSRAUSCHTEMPERATUR
.
31
3
DAS
KOSMA
ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE-SYSTEM
33
3.1
PRINZIP
DER
ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE
.
35
3.1.1
DER
PHOTOLACK
.
37
3.2
DIE
LITHOGRAPHIE-SOFTWARE
.
39
3.3
MARKENERKENNUNG
MIT
DER
FRAME-GRABBER
KARTE
.
40
3.3.1
DIE
GLOBALE
MARKENERKENNUNG
.
41
3.3.2
DIE
LOKALE
MARKENERKENNUNG
.
41
3.4
DER
XY-TISCH
.
43
4
HERSTELLUNG
DER
BOLOMETER
45
4.1
DER
FABRIKATIONSPROZESS
DER
BOLOMETER
.
45
4.2
DIE
BESTIMMUNG
VON
T
C
DUENNER
NB-STREIFEN
.
50
4.2.1
DER
EINFLUSS
DER
NB-SCHICHTDICKE
AUF
DAS
T
C
DER
NB-STREIFEN
.
52
4.2.2
DER
EINFLUSS
DES
AU-AETZENS
AUF
DAS
T
C
DER
NB-STREIFEN
.
53
4.2.3
DER
EINFLUSS
DES
SUBSTRATMATERIALS
UND
DER
STREIFENBREITE
AUF
DAS
T
C
DER
NB-STREIFEN
.
56
5
CHARAKTERISIERUNG
DER
BOLOMETER
59
5.1
DIE
WIDERSTANDS-TEMPERATUR-KENNLINIEN
DER
BOLOMETER
.
59
5.1.1
BESTIMMUNG
DER
KRITISCHEN
TEMPERATUR
.
59
5.1.2
EIN
MODELL
FUER
DIE
WIDERSTANDS-TEMPERATUR-KENNLINIE
.
60
5.1.3
BESTIMMUNG
DER
THERMISCHEN
ZEITKONSTANTEN
.
61
5.2
VORBEREITUNGEN
FUER
HOCHFREQUENZMESSUNGEN
.
64
5.3
MESSAUFBAU
FUER
HOCHFREQUENZMESSUNGEN
.
65
5.4
CHARAKTERISIERUNG
VON
HEBGEO
ZWISCHEN
630
UND
820
GHZ
.
66
5.4.1
DIE
STROM-SPANNUNGS-KENNLINIE
.
67
5.4.2
ABHAENGIGKEIT
DER
SYSTEMRAUSCHTEMPERATUR
VON
DER
ABSORBIERTEN
LOKALOSZILLATORLEISTUNG
.
67
5.4.3
ABHAENGIGKEIT
DER
SYSTEMRAUSCHTEMPERATUR
VON
DER
ZWISCHENFREQUENZ
70
5.4.4
BESTIMMUNG
DER
SYSTEMRAUSCHTEMPERATUR
ZWISCHEN
630
UND
820
GHZ
70
5.4.5
BESTIMMUNG
DER
ABSORBIERTEN
LOKALOSZILLATORLEISTUNG
ZWISCHEN
630
UND
820
GHZ
.
71
INHALTSVERZEICHNIS
III
5.5
CHARAKTERISIERUNG
VON
HEBGOO
HEI
800
GHZ
.
73
5.5.1
DIE
SYSTEMRAUSCHTEMPERATUR
.
73
5.5.2
DER
KONVERSIONSGEWINN
DES
MISCHERS
.
75
5.5.3
DIE
MISCHEREINGANGSRAUSCHTEMPERATUR
.
79
5.5.4
DIE
MISCHERAUSGANGSRAUSCHTEMPERATUR
.
80
5.5.5
DIE
THEORETISCHE
MISCHERAUSGANGSRAUSCHTEMPERATUR
.
80
5.5.6
DER
THEORETISCHE
KONVERSIONSGEWINN
DES
MISCHERS
.
83
5.5.7
DIE
RAUSCHBANDBREITE
.
84
5.5.8
DIE
THERMISCHE
ZEITKONSTANTE
.
84
6
AUSBLICK
88
LITERATURVERZEICHNIS
91
DANKSAGUNG
96 |
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