Vergleichende Untersuchungen der Röntgenemission von Mikropinchplasmen an Vakuumfunken- und Plasmafokusanlagen mit Elementen annähernd gleicher Ordnungszahl:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Aachen
Shaker
1998
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| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schriftenreihe: | Berichte aus der Physik
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| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1997 |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
_
3
2
ENTSTEHUNG
VON
SAEULEN
UND
MIKROPINCHPLASMEN
_
7
2.1
D
YNAMISCHER
F
INCH
.
8
2.2
S
TATISCHER
F
INCH
.
11
2.3
S
TRAHLUNGSKOLLAPS
.
12
2.4
A
USWIRKUNGEN
VON
I
NSTABILITAETEN
.
15
2.5
E
NTSTEHUNG
VON
M
IKROPINCHEN
.
16
2.5
1
PLASMAPARAMETER
BEIM
STRAHLUNGSKOLLAPSREGIME
.
17
2.6
F
AZIT
.
20
3
BESCHREIBUNG
DER
ANLAGEN
_
23
3.1
D
ER
P
LASMAFOKUS
.
23
3.1.1
ENTLADUNGSABLAUF
BEIM
PLASMAFOKUS
.
24
3.2
D
ER
V
AKUUMFUNKEN
.
26
3.3
D
ER
G
ASPUFF
.27
3.4
F
AZIT
.
28
4
EXPERIMENTELLE
BESCHREIBUNG
VON
SAEULE
UND
MIKROPINCH
_
29
4
1
C
HARAKTERISIERUNG
VON
S
AEULE
UND
M
IKROPINCH
.
29
4.2
Z
A
BHAENGIGKEIT
FUER
DAS
A
UFTRETEN
DES
E
MISSIONSREGIMES
.
30
4.3
UE
BERGANGSBEREICH
ZWISCHEN
S
AEULE
UND
M
IKROPINCH
BEI
A
RGON
AM
PF3
.
32
4.3.1
FAZIT
.
34
4.4
UEBERGANGSBEREICH
ZWISCHEN
SAEULEN
UND
MLKROPINCHREGIME
.
34
4.4.1
UEBERGANGSBEREICH
BEIM
PLASMAFOKUS
PF3
.
36
4.4.2
UEBERGANGSBEREICH
BEIM
PLASMAFOKUS
SPEED
2
.
40
4.4.3
UEBERGANGSPARAMETER
BEIM
GASPUFF
.
41
4.4.4
UEBERGANGSPARAMETER
BEIM
VAKUUMFUNKEN
.
43
4.4.5
FAZIT
.
44
5
UEBERGANG
VON
SAEULE
ZU
MIKROPINCH
DETAILLIERTE
UNTERSUCHUNGEN
_
47
5.1
P
LASMAEIGENSCHAFTEN
IN
V
ORHNCH
-
UND
P
INCHPHASE
.
47
5.
1.1
PLASMAFOKUS
PF3
.
47
5.1.1
1
BESTIMMUNG
VON
TEMPERATUR
UND
DICHTE
DES
VORPLASMAS
BEIM
PF3
.47
5.1.1.2
PINCHPHASE:
VERGLEICH
PLASMAPARAMETER
VON
SAEULE
UND
MIKROPINCH
BEIM
PF3
.
51
5.1.2
VAKUUMFUNKEN
.
56
5.1.2
1
DICHTE
UND
TEMPERATUR
WAEHREND
DER
VORPINCHPHASE
BEIM
VAKUUMFUNKEN
.56
5.1.2.2
PINCHPHASE:
MIKROPINCHPARAMETER
.
57
5.1.3
GASPUFF
MP
100
.
59
5.1.3.1
VORPINCHPHASE
(PLASMAPARAMETER)
BEIM
GASPUFF
MP100
.59
5.1.3.2
PINCHPHASE
BEIM
GASPUFF
.
60
5.1.4
FAZIT
AUS
DEN
PLASMAEIGENSCHAFTEN
FIIR
DIE
VORPINCH
UND
PINCHPHASE
.
60
5.2
U
NTERSUCHUNG
VON
P
LASMADYNAMIK
,
I
NSTABILITAETEN
UND
P
LASMAAUSFLUB
.
61
1
INHALTSVERZEICHNIS
5.2.1
PLASMAFOKUS
PF
3
.
61
5.2.1.1
BESTIMMUNG
VON
PMCHDAUER,
PINCHDURCHMESSER
UND
EMISSIONSDAUER
WAEHREND
DER
KOLLAPSPHASE
.
61
5.2.1.2
BESTIMMUNG
DES
LONISIERUNGSGRADES
.65
5.2.1.3
QUELLGEBIET
BEIM
PLASMAFOKUS
PF3
WAEHREND
DER
VORPINCHPHASE
.67
5.2.1.4
QUELLGEBIEL
BEIM
PF3
WAEHREND
DER
PINCHPHASE
.
71
5.2.1.5
BESCHREIBUNG
DES
ENERGIEFLUSSES
BEIM
PLASMAFOKUS
.
74
5,2
2
VAKUUMFUNKEN
.
76
5.2.3
QUELLGEBIET
BEIM
VAKUUMFUNKEN
WAEHREND
DER
VORPINCHPHASE
.
76
5.2.4
QUELLGEBIET
BEIM
VAKUUMFUNKEN
WAEHREND
DER
PINCHPHASE
.
77
5.2.5
QUELLGEBIET
BEIM
GASPUFF
MP100
WAEHREND
VORPINCH
UND
PINCHPHASE
.
78
5.2.6
FAZIT.79
5.3
T
YPISCHE
M
IKROPINCH
-P
HAENOMENE
:
E
MISSIONSDAUER
,
P
LASMAAUSFLUB
UND
L
INIENSHIFT
.
80
5.3.1
BESTIMMUNG
DER
EMISSIONSDAUER
VON
MIKROPINCHEN
.
80
5.3.2
UNTERSUCHUNG
AUF
PLASMAAUSFLUSS
UND
LINIENSHIFT
.
83
5.3.2.1
ZEITLICHE
UND
SPEKTRALE
INFORMATIONEN
FIIR
ARGON
BEIM
PLASMAFOKUS
.
83
5.3.2.2
ZEITLICHE
UND
SPEKTRALE
INFORMATIONEN
FUER
ALUMINIUM
BEIM
VAKUUMFUNKEN
.
88
5.3.3
FAZIT
.
91
6
PINCHE
ALS
INKOHAERENTE
STRAHLUNGSQUELLEN
.
93
6.1
K-S
TRAHLUNGSAUSBEUTE
FUER
A
RGON
BEIM
P
LASMAFOKUS
.93
6.2
K-S
TRAHLUNGSAUSBEUTE
FUER
A
LUMINIUM
UND
T
ITAN
BEIM
V
AKUUMFUNKEN
.
96
6.3
F
AZIT
.
99
7
BESETZUNGSINVERSION
DURCH
LADUNGSAUSTAUSCHREKOMBINATION
AM
PLASMAFOKUS
PF3
.
101
7.1
Z
EITAUFGELOESTE
M
ESSUNGEN
.
107
7.1.1
FAZIT
.
113
7.2
S
PEKTROSKOPISCHE
U
NTERSUCHUNGEN
.
114
7.3
E
INSATZ
EINES
F
ESTKOERPERTARGETS
.
119
7.3.1
FAZIT
.125
8
ZUSAMMENFASSUNG
.
127
9
ANHANG
.
129
ANHANG
EXPERIMENTELLE
UMSETZUNG
DER
PROBLEMSTELLUNG
.
129
ANHANG
PROZESSE
IN
PLASMEN
UND
BESTIMMUNG
VON
PLASMAPARAMETEM
.
153
ANHANG
LADUNGSAUSTAUSCHREKOMBINATION
.
173
10
LITERATURLISTE
.
179 |
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