PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung:
Gespeichert in:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Düsseldorf
VDI-Verl.
1997
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| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schriftenreihe: | Verein Deutscher Ingenieure: [Fortschritt-Berichte VDI / 3]
507 |
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| Beschreibung: | Zugl.: Braunschweig, Univ., Diss. |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
2
HERSTELLUNGSPROZESS
UND
CHARAKTERISIERUNG
DER
SCHICHTEN
YYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYY3
2.1
AUFBAU
DER
BESCHICHTUNGSANLAGE
.
3
2.2
PLASMAERZEUGUNG
MITTELS
EINER
HOHLKATHODE
.
4
2.3
SCHICHTCHARAKTERISIERUNG
.
6
2.3.1
MECHANISCHE
SCHICHTEIGENSCHAFTEN
.
6
2.3.2
CHEMISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
10
2.3.3
OPTISCHE
UND
ELEKTRISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
11
O
VRUNUIAGEN
AES
V
U-R
RUZCSSES
LJ
3.1
ABHAENGIGKEIT
DER
ABSCHEIDERATE
VON
DER
HOHLKATHODENGEOMETRIE
UND
DEN
PROZESSPARA
METEM
.
14
3.1.1
HOHLKATHODENGEOMETRIE
.
14
3.1.2
ABHAENGIGKEIT
VON
DEN
PROZESSPARAMETEM
.
17
3.2
MECHANISMEN
FUER
REAKTIVGASAKTIVIERUNG
UND
MATERIALTRANSPORT
.
22
3.3
ELEKTRODENEINFLUSS
.
24
3.4
MODELL
DER
TEILCHENSTROEME
UND
WICHTIGE
PROZESSEIGENSCHAFTEN
.
27
4
AMORPHE
KOHLENWASSERSTOFFSCHICHTEN.
YYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYY*YY*YYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYYY
.29
4.1
KOHLENSTOFF
ALS
BESCHICHTUNGSMATERIAL
.
29
4.2
A-C:H-SCHICHTEN
AUS
ETHIN
.
32
4.3
A-C:H-SCHICHTEN
AUS
METHAN
.
34
?
RMSIUAPUIY
IIIEISCIIIVIIICU.
*M7O
5.1
SILICIUMMODIFIZIERTE
A-C:H-SCHICHTEN
(SI-C:H)
.
38
5.2
TRANSPARENTE
KRATZSCHUTZSCHICHTEN
.
42
6
PLASMADIFFUSIONSPROZESSE.YY.YY.YY.YY.YY.YY.
6.1
ALLGEMEINES
UEBER
DAS.
VERFAHREN
.
6.2
NITRIEREN
VON
BOHRUNGEN
UNTER
NUTZUNG
DES
HOHLKATHODENEFFEKTES.
.47
.47
.48
7
PLASMAVORBEHANDLUNG
52
7.1
ALLGEMEINE
ASPEKTE
.
52
7.2
DIE
HAFTUNG
VON
AMORPHEN
KOHLENWASSERSTOFFSCHICHTEN
.
53
7.3
REINIGUNG
MIT
REDUZIERENDEN
GASEN
.
57
7.4
LONENAETZEN
MIT
DEM
SUBSTRAT
ALS
TEIL
DER
HOHLKATHODE
.
59
8
BESCHICHTUNG
GROSSFLAECHIGER
SUBSTRATE.W.W.W.W.W.W.W*.WW.W.W.62
8.1
DIE
VIELFACHHOHLKATHODE
.
62
8.2
ALTERNATIVE
HOHLKATHODEN
.
64
8.2.1
DIE
KANTENQUELLE
.
64
8.2.1.1
LONENAETZEN
UND
METALLABSCHEIDUNG
FUER
HAFTVERMITTELNDE
ZWISCHENSCHICHTEN
.
65
8.2.1.2
CVD-PROZESSE
.
69
8.2.2
DIE
NETZQUELLE
.
71
8.2.2.1
A-C:H-SCHICHTEN
AUS
METHAN
.
71
8.2.2.2
SI-C:H-SCHICHTEN
AUS
TMS
.
-
.
76
8.2.2.3
TRANSPARENTE
KRATZSCHUTZSCHICHTEN
.
78
7
LULM?UUV5DLLLRLHULLG
9.1
INNENBESCHICHTUNG
VON
ROHREN
.
80
9.2
INNENBESCHICHTUNG
VON
DUESEN
.
86
9.3
DIE
VERBESSERUNG
DER
WIRTSCHAFTLICHKEIT
DER
DUESENBESCHICHTUNG
.
89
10
PRAKTISCHE
ASPEKTE
DES
PECVD-PROZESSES
MITTELS
HOHLKATHODENGLIMMENTLADUNG.94
10.1
BESCHICHTUNG
DREIDIMENSIONALER
SUBSTRATE
.
94
10.2
LANGZEITSTABILITAET
.
97
10.3
SCHICHTEN
MIT
EINSTELLBAREN
MECHANISCHEN
EIGENSCHAFTEN.
-
.
100
12
LITERATUR.
.108 |
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