Mikrostrahlsysteme und Implantationsanlagen mit supraleitendem Solenoiden:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1997
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| Beschreibung: | Bochum, Univ., Diss., 1997 |
| Beschreibung: | 167 S. Ill., graph. Darst. |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
9
2
EIGENSCHAFTEN
EINER
MIKROSTRAHLANLAGE
13
2.1
ANFORDERUNGEN
AN
EINE
MIKROSTRAHLANLAGE
.
13
2.1.1
LONENSTROM
UND
-MASSEN
.
13
2.1.2
LONENSTRAHL-ABLENKUNG
UND
PROBENMANIPULATION
.
14
2.1.3
LIMITIERUNG
DER
LATERALEN
AUFLOESUNG
.
15
2.2
ERZEUGUNG
UND
EIGENSCHAFTEN
DER
ZU
FOKUSSIERENDEN
IONEN
.
17
2.3
ENERGIEVERTEILUNG
DES
DYNAMITRON-TANDEM
.
21
2.4
VERGLEICH
VERSCHIEDENER
LINSENSYSTEME
.
22
2.5
AUFBAU
DER
BOCHUMER
MIKROSTRAHLANLAGE
MIT
EINEM
SUPRALEITENDEN
SOLENOID
.
25
3
LINSENFEHLER
MAGNETISCHER
SOLENOIDE
29
3.1
LONENOPTISCHE
GRUNDLAGEN
.
.
.
.
.
29
3.2
ANALYTISCHE
ANSAETZE
ZUR
BESTIMMUNG
DER
ABERRATIONEN
.
36
3.2.1
GEOMETRISCHE
ABERRATIONEN
.
36
3.2.2
CHROMATISCHE
ABERRATIONEN
.
YY
.
38
3.2.3
ANALYTISCHE
EIGENSCHAFTEN
DER
MIKROSONDE
.
40
EIGENSCHAFTEN
DER
MIKROSONDE
.
41
ABERRATIONEN
VERSCHIEDENER
SYSTEMKONFIGURATIONEN
.
44
3.3
RECHNERGESTUETZTE
BESTIMMUNG
DER
ABERRATIONEN
.
46
3.3.1
ABSCHAETZUNG
UND
TEST
DER
BENOETIGTEN
RECHENGENAUIGKEIT
.
51
3.3.2
DEFINITION
DER
ABBILDUNGSQUALITAET
.
53
3.4
OPTIMIERUNG
DER
MIKROSTRAHLANLAGE
.
56
3.4.1
FELDVERTEILUNG
DES
MAGNETISCHEN
SOLENOIDS
.
57
3.4.2
MINIMIERUNG
DER
AXIALEN
ABERRATIONEN
.
59
3.4.3
NICHT-AXIALE
ABERRATIONEN
.
63
3.4.4
JUSTAGE
VON
BLENDEN
UND
LINSE
.
66
3.4.5
PARASITAERE
ABERRATIONEN
DURCH
MECHANISCHE
UNGENAUIGKEITEN
.
68
3.4.6
STREUUNG
AN
BLENDEN
UND
RESTGAS
.
71
3.4.7
EINFLUSS
EXTERNER
MAGNETFELDER
UND
MECHANISCHER
VIBRATION
.
.
74
3.5
EXPERIMENTELLE
BESTIMMUNG
DES
STRAHLQUERSCHNITTS
IM
VERGLEICH
MIT
RECHNUNGEN
.
78
4
EIGENSCHAFTEN
DER
STRAHLABLENKUNG
81
4.1
ANFORDERUNGEN
AN
EINE
ABLENKEINHEIT
.
81
4.2
FEHLER
DER
ELEKTROSTATISCHEN
ABLENKEINHEIT
.
83
4.3
KONZEPTE
ZUR
STRAHLABLENKUNG
.
85
4.4
EINFLUSS
DES
IDEALEN
ABLENKFELDES
AUF
DIE
FOKUSSIEREIGENSCHAFTEN
.
86
4.5
KONZEPTION
EINER
ELEKTROSTATISCHEN
MULTIPOLEINHEIT
ZUR
STRAHLABLENKUNG
91
4.5.1
AUFBAU
UND
FUNKTION
EINER
MULTIPOLEINHEIT
.
92
4.5.2
GEOMETRISCHE
RANDBEDINGUNGEN
.
95
4.5.3
EIGENSCHAFTEN
DER
MULTIPOLEINHEIT
.
95
5
KORREKTUR
DER
ABERRATIONEN
101
5.1
KORREKTUR
AXIALER
FEHLER
SUPRALEITENDER
SOLENOIDEN
.
102
5.1.1
KORREKTUR
DES
AXIALEN
ASTIGMATISMUS
.
103
5.1.2
KORREKTUR
DER
SPHAERISCHEN
ABERRATION
.
106
5.1.3
KORREKTUR
DER
AXIALEN
CHROMATISCHEN
ABERRATION
.
113
5.1.4
BEDINGUNGEN
FUER
EINEN
APLANATEN
ALS
FOKUSSIERENDE
LINSE
FUER
MIKROSTRAHLTYPISCHE
ANWENDUNGEN
.115
5.2
KORREKTUR
DER
NICHT-AXIALEN
FEHLER
.
117
5.2.1
POSITION
DER
DIVERGENZBEGRENZUNGSBLENDE
.117
5.2.2
TRANSVERSALE
CHROMATISCHE
ABERRATION
.117
5.2.3
BILDWOELBUNG
.
119
5.2.4
ASTIGMATISMUS
.
120
5.2.5
KOMA
.
121
5.2.6
VERZEICHNUNG
.
121
5.2.7
KORREKTUR
DER
ABLENKEINHEIT
.
121
5.3
ANWENDBARKEIT
KOMPLEXER
SYSTEME
DER
ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE
AUF
BEDINGUNGEN
DES
MIKROSTRAHLS
.
122
6
KONZEPTION
EINES
LONEN-PROJEKTIONS-VERFAHRENS
125
6.1
LONENSTRAHLGESTUETZTE
VERFAHREN
DER
HALBLEITER
UND
MIKROTECHNOLOGIE
.
126
6.2
FOCUSED-ION-BEAMS
(FIB)
.
128
6.3
LONEN-PROJEKTIONS-LITHOGRAPHIE
(IPL)
.
128
6.4
LONEN-PROJEKTION
MITTELS
SOLENOID-LINSE
.
129
6.4.1
FUNKTIONSWEISE
UND
AUFBAU
.
130
6.4.2
KORREKTUR
DER
NICHT-AXIALEN
ABERRATIONEN
.
131
6.4.3
ANFORDERUNGEN
AN
DIE
MASKEN
.
132
7
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
135
ANHANG
137
LITERATUR
153 |
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