Entwicklungsbegleitende Risikobehandlung neuer Technologien: am Beispiel der Physical Vapour Deposition (PVD) Technologie
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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Löffler, Frank (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Aachen Mainz 1997
Ausgabe:1. Aufl.
Schriftenreihe:Werkstoffwissenschaftliche Schriftenreihe 17
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Habil.-Schr., 1996
Beschreibung:IV, 178 S. graph. Darst.
ISBN:3896532103

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