Darstellung und Charakterisierung von epitaktischem und lumineszierendem nanokristallinen Silicium:
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1996
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
.
1
2
WAFER-REINIGUNG
.
3
2.1
NASSCHEMISCHES
REINIGUNGSVERFAHREN
.
3
2.2
SILICIUMDIOXID
.
4
2.3
FLUORWASSERSTOFFBEHANDLUNG
.
6
2.4
PLASMAREINIGUNGSVERFAHREN
.
7
3
SILICIUMEPITAXIEVERFAHREN
.
10
3.1
THERMISCHE
ABSCHEIDUNGEN
AUS
DER
GASPHASE
.
11
3.2
PLASMA
UNTERSTUETZTE
ABSCHEIDUNGEN
AUS
DER
GASPHASE
.
13
3.3
REAKTIONSKINETIK
THERMISCHER
ABSCHEIDUNGEN
AUS
DISILAN
.
14
4
EXPERIMENTELLER
TEIL
.
17
4.1
UHV-ANLAGE
ZUR
SILICIUMEPITAXIE
.
17
4.2
HEIZSYSTEM
.
20
4.2.1
INCONELSUBSTRATHALTER
.
20
4.2.2
TANTALHEIZUNG
.
21
4.3
TEMPERATURKALIBRIERUNG
.
24
4.4
SICHERHEITSTECHNISCHE
EINRICHTUNGEN
.
25
4.5
DARSTELLUNG
EPITAKTISCHER
SILICIUMFILME
.
26
4.5.1
WAFERREINIGUNG
.
26
4.5.2
EINSCHLEUSEN
UND
AUFHEIZEN
DES
SUBSTRATS
.
27
5
CHARAKTERISIERUNG
DER
ABGESCHIEDENEN
SCHICHTEN
.
28
5.1
INFRAROT
UND
UV-VIS-SPEKTROSKOPISCHE
UNTERSUCHUNGEN
.
28
5.2
RAMANSPEKTROSKOPIE
.
34
5.3
ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE
.
35
5.4
PHOTOTHERMAL
DEFLECTION
SPECTROSCOPY
.
38
5.5
KRISTALLOGRAPHISCHES
AETZEN
.
41
5.6
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
.
41
5.7
ATOMABSORPTIONSSPEKTROSKOPIE
.
42
5.8
NEUTRONENAKTIVIERUNGSANALYSE
.
43
5.9
TOTALREFLEXIONS-ROENTGENFLUORESZENZ-ANALYSE
.
45
6
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
50
6.
1
ABHAENGIGKEIT
DER
ABSCHEIDERATE
VON
DEN
PROZESSPARAMETEM
.
50
6.2
SCHICHTQUALITAET
.
53
6.2.1
IR
UND
UV-VIS-SPEKTROSKOPIE
.
53
6
2.2
RAMANSPEKTROSKOPIE
.
56
6.2
3
ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE
.
57
6.2.4
PHOTOTHERMAL
DEFLECTION
SPECTROSCOPY
.
62
6.2.5
KRISTALLOGRAPHISCHES
AETZEN
.
63
6.2.6
MIKROSKOPIE
.
64
6.2.7
ATOMABSORPTIONSSPEKTROSKOPIE
.
66
6.2.8
NEUTRONENAKTIVIERUNGSANALYSE
.
67
6.2.9
TOTALREFLEXIONS-ROENTGENFLUORESZENZ-ANALYSE
.
71
6
3
VERGLEICH
MIT
LITERATURDATEN
.
75
7
UNTERSUCHUNGEN
DES
SYSTEMS
SILICIUM/IOD
.
76
7.1
ADSORPTION
VON
LOD
AN
EINER
SI(
11
1)-OBERFLAECHE
-
KURZER
UEBERBLICK
.
76
7.2
AUSWIRKUNGEN
AUF
DIE
ABSCHEIDERATE
.
77
7.3
MASSENSPEKTROSKOPISCHE
UNTERSUCHUNGEN
DES
SYSTEMS
SILAN/IOD
.
80
7.4
DISKUSSION
.
87
7.5
EINFLUSS
AUF
DIE
SCHICHTQUALITAET
.
89
8
LUMINESZIERENDES
NANOKRISTALLINES
SILICIUM
.
93
8.1
GRUNDLEGENDES
ZUM
LUMINESZIERENDEN
SILICIUM
.
93
8.2
MODELLVORSTELLUNGEN
UEBER
DIE
HERKUNFT
DER
LICHTEMISSION
.
94
9
DARSTELLUNG
VON
LUMINESZIERENDEM
SILICIUM
.
96
9.1
PRAEPARATION
NANOKRISTALLINER
SCHICHTEN
.
96
9.2
CHARAKTERISIERUNG
NANOKRISTALLINER
SI-FILME.
99
9.2.1
ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE
.
99
9.2
2
SPEKTRALAUFGELOESTE
LUMINESZENZMESSUNG
.
100
9.3
FORMIERGASBEHANDLUNG
.
102
9
4
ELEKTRONEN-SPIN-RESONANZ-MESSUNGEN
.
105
9.5
STRUKTURELLER
EINFLUSS
AUF
DIE
PHOTOLUMINESZENZ
.
108
9.6
ZEITLICHES
ABKLINGVERHALTEN
DER
LUMINESZENZ
.
110
9.7
MODELLVORSTELLUNG
.
111
10
ZUSAMMENFASSUNG
.
114
11
LITERATURVERZEICHNIS
.
116 |
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