Niedertemperatur-Silicium-Epitaxie durch plasmaunterstützte chemische Abscheidung aus der Gasphase:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Ratz, Günter (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1995
Schlagworte:
Beschreibung:138 S. Ill., graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!