Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1996
|
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | Auch als: PTB-Bericht. PTB F 24 |
| Beschreibung: | VI, 103 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV011228562 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20130910 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 970304s1996 ad|| mt|| 00||| gerod | ||
| 035 | |a (OCoLC)258482757 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV011228562 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-91 |a DE-634 |a DE-83 |a DE-11 | ||
| 084 | |a ELT 285d |2 stub | ||
| 100 | 1 | |a Siebert, Andreas |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken |c vorgelegt von Andreas Siebert |
| 264 | 1 | |c 1996 | |
| 300 | |a VI, 103 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 500 | |a Auch als: PTB-Bericht. PTB F 24 | ||
| 502 | |a Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Univ., Diss., 1996 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a Fertigungsfehler |0 (DE-588)4286623-6 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Verbesserung |0 (DE-588)4309013-8 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Messgenauigkeit |0 (DE-588)4138706-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Platzierung |g Mikroelektronik |0 (DE-588)4197293-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Maßgenauigkeit |0 (DE-588)4037864-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Fertigungsfehler |0 (DE-588)4286623-6 |D s |
| 689 | 0 | 2 | |a Platzierung |g Mikroelektronik |0 (DE-588)4197293-4 |D s |
| 689 | 0 | 3 | |a Maßgenauigkeit |0 (DE-588)4037864-0 |D s |
| 689 | 0 | 4 | |a Messgenauigkeit |0 (DE-588)4138706-5 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 689 | 1 | 0 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |D s |
| 689 | 1 | 1 | |a Verbesserung |0 (DE-588)4309013-8 |D s |
| 689 | 1 | |8 1\p |5 DE-604 | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007534521 | ||
| 883 | 1 | |8 1\p |a cgwrk |d 20201028 |q DE-101 |u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk | |
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804125728117096448 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Siebert, Andreas |
| author_facet | Siebert, Andreas |
| author_role | aut |
| author_sort | Siebert, Andreas |
| author_variant | a s as |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV011228562 |
| classification_tum | ELT 285d |
| ctrlnum | (OCoLC)258482757 (DE-599)BVBBV011228562 |
| discipline | Elektrotechnik |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01922nam a2200481 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV011228562</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20130910 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">970304s1996 ad|| mt|| 00||| gerod</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)258482757</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV011228562</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-634</subfield><subfield code="a">DE-83</subfield><subfield code="a">DE-11</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ELT 285d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Siebert, Andreas</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken</subfield><subfield code="c">vorgelegt von Andreas Siebert</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1996</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">VI, 103 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Auch als: PTB-Bericht. PTB F 24</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Univ., Diss., 1996</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Fertigungsfehler</subfield><subfield code="0">(DE-588)4286623-6</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Verbesserung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4309013-8</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Messgenauigkeit</subfield><subfield code="0">(DE-588)4138706-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Platzierung</subfield><subfield code="g">Mikroelektronik</subfield><subfield code="0">(DE-588)4197293-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Maßgenauigkeit</subfield><subfield code="0">(DE-588)4037864-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Fertigungsfehler</subfield><subfield code="0">(DE-588)4286623-6</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Platzierung</subfield><subfield code="g">Mikroelektronik</subfield><subfield code="0">(DE-588)4197293-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">Maßgenauigkeit</subfield><subfield code="0">(DE-588)4037864-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="4"><subfield code="a">Messgenauigkeit</subfield><subfield code="0">(DE-588)4138706-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Verbesserung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4309013-8</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007534521</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV011228562 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T18:06:10Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007534521 |
| oclc_num | 258482757 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-91 DE-BY-TUM DE-634 DE-83 DE-11 |
| owner_facet | DE-91 DE-BY-TUM DE-634 DE-83 DE-11 |
| physical | VI, 103 S. Ill., graph. Darst. |
| publishDate | 1996 |
| publishDateSearch | 1996 |
| publishDateSort | 1996 |
| record_format | marc |
| spelling | Siebert, Andreas Verfasser aut Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken vorgelegt von Andreas Siebert 1996 VI, 103 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Auch als: PTB-Bericht. PTB F 24 Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Univ., Diss., 1996 Fertigungsfehler (DE-588)4286623-6 gnd rswk-swf Verbesserung (DE-588)4309013-8 gnd rswk-swf Messgenauigkeit (DE-588)4138706-5 gnd rswk-swf Platzierung Mikroelektronik (DE-588)4197293-4 gnd rswk-swf Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd rswk-swf Maßgenauigkeit (DE-588)4037864-0 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 s Fertigungsfehler (DE-588)4286623-6 s Platzierung Mikroelektronik (DE-588)4197293-4 s Maßgenauigkeit (DE-588)4037864-0 s Messgenauigkeit (DE-588)4138706-5 s DE-604 Verbesserung (DE-588)4309013-8 s 1\p DE-604 1\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk |
| spellingShingle | Siebert, Andreas Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken Fertigungsfehler (DE-588)4286623-6 gnd Verbesserung (DE-588)4309013-8 gnd Messgenauigkeit (DE-588)4138706-5 gnd Platzierung Mikroelektronik (DE-588)4197293-4 gnd Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd Maßgenauigkeit (DE-588)4037864-0 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4286623-6 (DE-588)4309013-8 (DE-588)4138706-5 (DE-588)4197293-4 (DE-588)4174516-4 (DE-588)4037864-0 (DE-588)4113937-9 |
| title | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken |
| title_auth | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken |
| title_exact_search | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken |
| title_full | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken vorgelegt von Andreas Siebert |
| title_fullStr | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken vorgelegt von Andreas Siebert |
| title_full_unstemmed | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken vorgelegt von Andreas Siebert |
| title_short | Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken |
| title_sort | verbesserte positionsbestimmung von strukturen auf photomasken |
| topic | Fertigungsfehler (DE-588)4286623-6 gnd Verbesserung (DE-588)4309013-8 gnd Messgenauigkeit (DE-588)4138706-5 gnd Platzierung Mikroelektronik (DE-588)4197293-4 gnd Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd Maßgenauigkeit (DE-588)4037864-0 gnd |
| topic_facet | Fertigungsfehler Verbesserung Messgenauigkeit Platzierung Mikroelektronik Fotolithografie Halbleitertechnologie Maßgenauigkeit Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT siebertandreas verbessertepositionsbestimmungvonstrukturenaufphotomasken |