Photolithographie mit semitransparenten Masken: Entwicklung einer Methode zur photolithographischen Erzeugung reliefartiger Strukturen für Elemente der integrierten Optik
Gespeichert in:
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|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Göttingen
Cuvillier
1996
|
| Ausgabe: | 1. Aufl. |
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| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | XII, 125 S. graph. Darst. |
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INHALTSVERZEICHNIS
EINLEITUNG
1
1
BETRACHTUNGEN
ZUR
PHOTOLITHOGRAPHIE
5
1.1
PHOTOLITHOGRAPHISCHES
AUFLOESUNGSVERMOEGEN
.
7
1.2
KIRCHHOFFSCHES
INTEGRAL
IN
VEKTORFORM
.
9
1.2.1
ALLGEMEINE
STREUKOERPER
.
9
1.2.2
STREUUNG
AN
EINER
LOCHBLENDE
.
10
1.3
TRANSMISSION
EINER
KLEINEN
OEFFNUNG
.
13
2
HERSTELLUNG
SEMITRANSPARENTER
MASKEN
19
2.1
EIGENSCHAFTEN
DES
ELEKTRONENSTRAHLLACKES
.
19
2.1.1
STRUKTUR
UND
PROZESSIERUNG
DES
ELEKTRONENSTRAHLLACKES
.
19
2.1.2
BESTIMMUNG
DER
PROXIMITY-PARAMETER
.
24
2.2
CHROM-AETZTECHNIK
.
31
2.3
UNTERSUCHUNG
SEMITRANSPARENTER
STRUKTUREN
.
32
2.4
TRANSMISSION
SEMITRANSPARENTER
MASKENGEBIETE
.
36
2.4.1
EINFLUSS
DER
GROESSE
DER
OEFFNUNGEN
.
36
2.4.2
EINFLUSS
DER
ELEKTRONENSTRAHLPARAMETER
.
38
2.4.3
EINFLUSS
DER
BELICHTUNGSFELDGROESSEN
.
40
2.5
PROZESS
ZUR
HERSTELLUNG
SEMITRANSPARENTER
MASKEN
.
42
II
INHALTSVERZEICHNIS
3
ERZEUGUNG
RELIEFARTIGER
STRUKTUREN
45
3.1
PHOTOLITHOGRAPHISCHE
PROZESSIERUNG
.
46
3.1.1
CHEMISCHE
STRUKTUR
DES
PHOTOLACKES
.
46
3.1.2
PHOTOLACK-VORBEHANDLUNG
.
48
3.1.3
EINFLUSS
EINES
TEMPERPROZESSES
NACH
DER
BELICHTUNG
.
50
3.1.4
EINFLUSS
DER
ENTWICKLUNGSZEIT
.
52
3.1.5
EINFLUSS DES
BELICHTUNGSABSTANDES
.
54
3.2
LONENSTRAHL-ATZTECHNIK
.
56
3.2.1
EINFLUSS
DER
PHOTOLACK-NACHBEHANDLUNG
.
56
3.2.2
SELEKTIVITAET
BEIM
LONENSTRAHL-ATZEN
.
58
3.3
BEISPIELE
HERGESTELLTER
STRUKTUREN
.
60
4
WELLENLEITERTAPER
67
4.1
ANWENDUNGEN
.
67
4.2
WELLENFUEHRUNG
.
68
4.2.1
FILMWELLENLEITER
.
68
4.2.2
TE-MODEN
.
69
4.2.3
TM-MODEN
.
72
4.2.4
BERECHNUNG
DER
1/E-WEITEN
EINER
FELDVERTEILUNG
.
74
4.2.5
METHODE
DES
EFFEKTIVEN
BRECHUNGSINDEX
.
75
4.3
STRUKTUR
UND
HERSTELLUNG
DER
WELLENLEITERTAPER
.
77
4.4
BERECHNUNG
DER
FELDVERTEILUNGEN
.
79
4.5
AUFBAU
DES
OPTISCHEN
MESSPLATZES
.
82
4.6
MESSUNGEN
ZUR
FASER-FASER-KOPPLUNG
.
85
4.6.1
BESTIMMUNG
DER
FABRY-PEROT-RESONANZEN
.
85
4.6.2
BESTIMMUNG
DER
JUSTIERTOLERANZEN
.
86
INHALTSVERZEICHNIS
III
4.7 MESSUNGEN
ZUR
TAPER-FASER-KOPPLUNG
.
88
4.7.1
BESTIMMUNG
DER
KOPPELVERLUSTE
.
88
4.7.2
BESTIMMUNG
DER
JUSTIERTOLERANZEN
.
90
4.8
MESSUNGEN
ZUR
WELLENLEITER-FASER-KOPPLUNG
.
93
4.9
RESUEMEE
.
96
AUSBLICK
97
ZUSAMMENFASSUNG
99
A
TRANSFERMATRIXMETHODE
101
A.L
MATRIX
DER
AUSBREITUNG
EINER
EBENEN
WELLE
.
101
A.2
MATRIX
EINES
INDEXSPRUNGES
.
102
A.3
BERECHNUNG
DER
TRANSMISSION
.
103
A.4
BESCHREIBUNG
EINES
FABRY-PEROT-RESONATORS
.
104
B
KOPPELVERLUSTE
DURCH
MODENFEHLANPASSUNG
107
B.L
KOPPELEFFIZIENZ
UND
UBERLAPPINTEGRAL
.
107
B.2
KOPPLUNG
GAUSSFOERMIGER
FELDER
.
109
LITERATURVERZEICHNIS
111
VEROEFFENTLICHUNGEN
/
PATENT
121
DANKSAGUNG
123
LEBENSLAUF
125 |
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