Phasenumwandlungen im System Edelmetallfilm-Silizium(111): LEED, Auger-, Widerstandsmessungen
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
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1996
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INHALTSVERZEICHNIS
1.
EINLEITUNG
1
2.
APPARATUR
UND
PROBENPRAEPARATION
3
2.1.
DER
UHV-PUMPSTAND
3
2.2.
LEED
4
2.3.
AES
(AUGER-ELEKTRONENSPEKTROSKOPIE)
5
2.4.
SCHICHTDICKENBESTIMMUNG
5
2.5.
MESSUNG
DES
ELEKTRISCHEN
WIDERSTANDES
6
2.6.
PROBENHALTERUNG,
HEIZUNG,
TEMPERATURMESSUNG
8
2.7.
PRAEPARATION
DER
SILIZIUMEINKRISTALLE
11
3.
ALLGEMEINE
VORBEMERKUNGEN
15
3.1.
SCHMELZDIAGRAMME
AU/SI,
AG/SI,
CU/SI
15
3.2.
WIDERSTANDSMESSUNG
18
3.3.
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
19
4.
DAS
SYSTEM
GOLD/SILIZIUM(L
11)
21
4.1.
LEED
UNTERSUCHUNGEN
21
4.2.
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
30
4.3.
WIDERSTANDSMESSUNGEN
39
4.3.1.
SCHICHTDICKENABHAENGIGKEIT
DES
OBERFLAECHENSCHMELZENS
DUENNER
GOLDSCHICHTEN
AUF
SI(L
11).
43
4.3.2.
FEINSTRUKTUREN
48
4.3.3.
ABKUEHLVORGANG
54
4.3.4.
WIDERSTANDSAENDERUNGEN
BEI
SCHICHTDICKEN
UNTERHALB
150
NM
BEI
DEN
REVERSIBLEN
MESSUNGEN
56
4.3.5.
SCHICHTDICKEN
UEBER
150
NM
59
4.3.6.
EINFLUSS
DER
RAMPENGESCHWINDIGKEIT
67
4.3.7.
FILMWACHSTUM
BEI
GEKUEHLTEN
PROBEN
69
4.3.8.
VORBELEGTE
PROBEN
71
4.3.9.
KINETISCHE
BETRACHTUNGEN
73
5.
DAS
SYSTEM
GOLD/GLAS.
75
6.
DAS
SYSTEM
SILBER/SILIZIUM(LLL)
78
6.1.
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPISCHE
MESSUNGEN
81
6.2.
WIDERSTANDSMESSUNGEN
84
7.
DAS
SYSTEM
KUPFER/SILIZIUM(L
11)
86
7.1.
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPISCHE
MESSUNGEN
86
7.2.
WIDERSTANDSMESSUNGEN
92
8.
ZUSAMMENFASSUNG
94
9.
LITERATURVERZEICHNIS
96 |
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