Keimbildung und Wachstum heteroepitaktischer Diamantschichten im Heissdraht-CVD-Verfahren:
Gespeichert in:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
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1995
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INHALTSVERZEICHNIS
ZUSAMMENFASSUNG
1
1
EINLEITUNG
3
2
DIAMANTABSCHEIDUNG
AUS
DER
GASPHASE
(CVD)
7
2.1
MODIFIKATIONEN
VON
KOHLENSTOFF
8
2.2
VERSCHIEDENE CVD-VERFAHREN
ZUR
ABSCHEIDUNG
VON
DIAMANT
10
2.3
GASPHASE
DER
DIAMANT-CVD
13
2.4
WACHSTUMSMODELLE
ZUR
DIAMANT-CVD
16
2.5
THERMODYNAMISCHE THEORIE
ZUR
KEIMBILDUNG
21
2.5.1
THERMODYNAMISCHE
THEORIE
ZUR
KEIMBILDUNG
IN
DER
GASPHASE
21
2.5.2
THERMODYNAMISCHE
THEORIE
ZUR
KEIMBILDUNG
AUF
OBERFLAECHEN
22
2.5.3
WACHSTUMSMODEN
DUENNER
SCHICHTEN
25
2.5.4
KEIMBILDUNG
VON
DIAMANT
AUF
SILIZIUMSUBSTRATEN
27
3
RASTERTUNNELMIKROSKOPIE
29
3.1
PRINZIP
DER
RASTERTUNNELMIKROSKOPIE
29
3.2
THEORETISCHE
GRUNDLAGEN
ZUM
RASTERTUNNELMIKROSKOP
31
3.3
STM-SPITZEN
38
4
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
43
4.1
HFCVD-REAKTOR
44
4.1.1
KONTROLLE
UND
STEUERUNG
DER
PROZESSPARAMETER
45
4.2
UHV-STM
47
4.3
PROBENTRANSFER
ZWISCHEN
HFCVD-KAMMER
UND
UHV-STM
50
5
DIAMANTABSCHEIDUNG
MIT
DEM
HFCVD-VERFAHREN
52
5.1
SUBSTRATVORBEHANDLUNG
53
5.2
DURCHFUEHRUNG
EINES
HFCVD-EXPERIMENTES
55
5.3
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
55
5.3.1
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
55
5.3.2
RAMANSPEKTROSKOPIE
56
5.4
VARIATION DER
SUBSTRATTEMPERATUR
58
5.5
VARIATION
DES
CH^TO-VERHAELTNISSES
65
5.6
VARIATION
DES
DRUCKS
68
5.7
VERUNREINIGUNGEN
IN
DER
IM
HFCVD-VERFAHREN
HERGESTELLTEN
DIAMANTSCHICHT
70
6
HETEROEPITAXIE
VON
DIAMANT
AUF
SILIZIUM
72
6.1
HETEROEPITAXIE
VON
DIAMANT
AUF
SILIZIUM
IM
MWCVD-VERFAHREN
73
6.1.1
TEXTUR
VON
CVD-DIAMANTSCHICHTEN;
PRINZIP
DER
'EVOLUTIONAEREN
AUSWAHL'
73
6.1.2
DIAMANT-KEIMBILDUNG
DURCH
ANLEGEN
EINER
SUBSTRATVORSPANNUNG
IM
78
MWCVD-VERFAHREN
6.1.3
HETEROEPITAKTISCHE
MWCVD-SCHICHT
78
6.2
HETEROEPITAXIE
VON
DIAMANT
AUF
SILIZIUM
IM
HFCVD-VERFAHREN
83
6.2.1
GLEICHSTROMGASENTLADUNG
83
6.2.2
DIAMANT-KEIMBILDUNG
DURCH
ANLEGEN
EINER
SUBSTRATVORSPANNUNG
IM
86
HFCVD-VERFAHREN
6.2.3
HETEROEPITAKTISCHE
HFCVD-DIAMANTSCHICHT
88
7
UNTERSUCHUNGEN
ZUR
DIAMANT-KEIMBILDUNG
91
7.1
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
92
7.1.1
RASTERTUNNELMIKROSKOPIE
(STM)
92
7.1.2
PHOTOELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
(XPS)
92
7.1.3
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
(AES)
94
7.2
STM-UNTERSUCHUNGEN
DER
SILIZIUMSUBSTRATE
96
7.2.1
NASSCHEMISCH
GEAETZTE
SI(L
1
1)-SUBSTRATE
96
7.2.2
MIT
DIAMANTPULVER
GEKRATZTE,
NASSCHEMISCH
GEAETZTE
SI(L
1
1)-SUBSTRATE
98
7.2.3
NASSCHEMISCH
GEAETZTE
SI(001)-SUBSTRATE
100
7.3
EINFLUSS
DER
CVD-GASATMOSPHAERE
AUF
DIE
SILIZIUMSUBSTRATE
101
7.3.1
H2-CVD-GASATMOSPHAERE
101
7.3.2
H2/CH4-CVD-GASATMOSPHAERE
104
7.4
DIAMANT-KEIMBILDUNG
IM
HFCVD-VERFAHREN
109
7.4.1
KEIMBILDUNG
AUF
MIT
DIAMANTPULVER
GEKRATZTEN,
NASSCHEMISCH
GEAETZTEN
109
SI(L
1
1
)-SUBSTRATEN
7.4.2
HETEROEPITAKTISCHE
KEIMBILDUNG
AUF
SI(001)-SUBSTRATEN
112
7.5
DISKUSSION
DER
ERGEBNISSE
118
8
LITERATURVERZEICHNIS
123 |
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