Modellierung der Dünnschichtabscheidung von kubischem Bornitrid:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
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1996
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
DIE
MATERIALIEN
BORNITRID
UND
KOHLENSTOFF
4
2.1
SUPERHARTE
MATERIALIEN
.
4
2.2
KOHLENSTOFF
UND
BORNITRID-MODIFIKATIONEN
.
5
2.2.1
KRISTALLSTRUKTUR
VON
GRAPHIT
UND
HEXAGONALEM
BORNITRID
.
6
2.2.2
KRISTALLSTRUKTUR
VON
DIAMANT
UND
KUBISCHEM
BORNITRID
.
7
2.2.3
AMORPHE
MODIFIKATIONEN
.
7
2.2.4
THERMODYNAMISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
8
2.2.5
MECHANISCHE,
ELEKTRONISCHE
UND
OPTISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
9
3
DUENNSCHICHT-ABSCHEIDUNG
VON
C-BN
UND
TA-C
11
3.1
CHARAKTERISIERUNGS-VERFAHREN
.
11
3.1.1
CHARAKTERISIERUNG
VON
C-BN
.
11
3.1.2
CHARAKTERISIERUNG
VON
TA-C
.
16
3.2
ABSCHEIDUNG
VON
C-BN
.
19
3.2.1
LONENUNTERSTUETZTE
PVD
.
19
3.2.2
LONENUNTERSTUETZTE
CVD
.
25
3.2.3
GEMEINSAMKEITEN
DER
VERFAHREN
.
27
3.2.4
VERFAHREN
OHNE
STARKEN
LONENBESCHUSS
.
29
3.3
ABSCHEIDUNG
VON
TA-C
UND
TA-C:H
.
30
3.3.1
PVD-ABSCHEIDUNG
.
30
3.3.2
CVD-ABSCHEIDUNG
.
33
3.3.3
GEMEINSAMKEITEN
DER
VERFAHREN
.
34
4
NIEDERTEMPERATURPLASMEN
35
4.1
TEMPERATUREN
IM
PLASMA
.
35
INHALTSVERZEICHNIS
3
4.2
DEBYE-LAENGE
.
36
4.3
PLASMAFREQUENZ
.
37
4.4
LONENSTROMDICHTE
.
38
4.5
LONENENERGIE
.
40
5
LON-FESTKOERPER-WECHSELWIRKUNG
43
5.1
ENERGIEVERLUST
.
43
5.1.1
NUKLEARER
ENERGIEVERLUST
.
44
5.2
REICHWEITE
.
46
5.2.1
CHANNELING
.
.
.
48
5.3
DEFEKTE
.
48
5.3.1
ANZAHL
DER
VERSETZTEN
ATOME
.
49
5.3.2
THERMISCHE
SPIKES
.
50
5.3.3
AMORPHISIERUNG
.
51
5.4
DER
SPUTTERPROZESS
.
52
5.4.1
DIE
STOSSKASKADE
IM
TARGET
.
53
5.4.2
ENERGIEABHAENGIGKEIT
DER
SPUTTERAUSBEUTE
.
55
5.4.3
WINKELABHAENGIGKEIT
DER
SPUTTERAUSBEUTE
.
58
5.4.4
ENERGIE
UND
WINKELVERTEILUNG
DER
GESPUTTERTEN
ATOME
.
60
5.4.5
WEITERE
EINFLUSSGROESSEN
.
61
5.4.6
MEHRKOMPONENTIGE
MATERIALIEN
.
62
5.4.7
CHEMISCHES
SPUTTERN
.
63
5.4.8
MESSUNG
VON
SPUTTERAUSBEUTEN
.
64
5.5
SIMULATIONSRECHNUNGEN
.
65
5.6
LONENGESTUETZTE
DEPOSITION
.
66
5.6.1
SPUTTERPROZESSE
.
67
5.6.2
MIKROSTRUKTUR
.
68
5.6.3
MECHANISCHE
SPANNUNGEN
.
68
5-6.4
HAFTUNG
.
71
6
MODELLIERUNG
DER
C-BN-ABSCHEIDUNG
74
6.1
DATENSAMMLUNG
.
74
6.1.1
STOECHIOMETRIE
.
76
6.2
DAS
SPUTTERMODELL
.
77
6.2.1
MODELL
DIREKTER
RESPUTTCRGRENZCN
.
78
IN
HA
LTS
VERZEICHNIS
4
6.2.2
VERGLEICH
VON
CVD
UND
PVD
.
80
6.2.3
LONENENERGIE
.
83
6.2.4
SUBSTRATTCMPERATUR
.
85
6.2.5
LONENEINFALLSWINKCL
.
87
6.2.6
LONENMASSE
.
87
6.2.7
MATERIALVERLUST
.
89
6.3
SPUTTERAUSBEUTEN
VON
BN
.
91
6.3.1
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
.
91
6.3.2
ENERGIEABHAENGIGKEIT
.
91
6.3.3
SELEKTIVES
SPUTTERN
.
94
6.3.4
CHEMISCHES
SPUTTERN
.
97
6.4
KONKURRIERENDES
KEIMWACHSTUM
.
98
6.4.1
LONENENERGIE
.
99
6.4.2
LONENEINFALLSWINKEL
.
100
6.5
PRAEFERENTIELLES
SPUTTERN
.
101
6.6
NUKLEATION
.
105
6.6.1
NUKLEATION
BEI
DER
LONENSTRAHL-DEPOSITION
.
105
6.6.2
NUKLEATION
UND
SPUTTERMODELL
.
107
6.6.3
NUKLEATIONS-MECHANISMEN
.
109
7
VERGLEICH
MIT
ANDEREN
KONZEPTEN
115
7.1
VERGLEICH
ZWISCHEN
C-BN
UND
TA-C-ABSCHEIDUNG
.
115
7.2
ANDERE
MODELLE
.
118
7.2.1
SUBPLANTATION
.
118
7.2.2
STRESS-MODELL
.
123
7.2.3
VERGLEICH
DER
MODELLE
.
127
7.3
OBERFLAECHEN-BINDUNGSZUSTAND
VON
C-BN
.
128
7.3.1
EXPERIMENTELLE
CHARAKTERISIERUNG
.
128
7.3.2
MODELLIERUNG
.
132
8
MECHANISCHE
SPANNUNGEN
135
8.1
MESSUNG
VON
SPANNUNGEN
.
135
8.2
MODELLIERUNG
VON
SPANNUNGEN
.
137
8.2.1
THERMISCHE
SPANNUNGEN
.
137
8.2.2
INTRINSISCHE
SPANNUNGEN
.
138
INHALTSVERZEICHNIS
5
8.3
HAFTUNG
VON
C-BN-SCHICHTEN
.
146
8.4
KRISTALLINITAET
.
149
9
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
152
A
ANHANG
157
LITERATURVERZEICHNIS
170
LISTE
DER
VEROEFFENTLICHUNGEN
171
DANKSAGUNG
175
LEBENSLAUF
177
ERKLAERUNG
178 |
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