Untersuchungen zum Einfluß netzwerkmodifizierender Elemente auf die freie Oberflächenenergie amorpher Kohlenwasserstoff-Schichten:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Düsseldorf
VDI-Verl.
1996
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| Schriftenreihe: | Verein Deutscher Ingenieure: [Fortschritt-Berichte VDI / 5]
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Autor: Trojan, Klaus
Jahr: 1996
FORTSCHRITTBERICHTE VM Dipl.-Ing. Klaus Trojan, Munchen Untersuchungen zum Einfluß netzwerkmodifizierender Elemente auf die freie Oberfiächenenergie amorpher Kohlenwasserstoff-Schichten Reihe 5 : Grund- und Werkstoffe Nr. 431 VH VERLAG
V Inhaltsverzeichnis 1. Einleitung................................................................................................................... 1 2. Theoretische Betrachtung zur freien Oberflächenenergie....................................... 3 2.1 Grundlagen........................................................................................................ 3 2.2 Hystereseeffekte................................................................................................ 6 2.3 Meßmethode und Auswerteverfahren................................................................ 10 3. Analytische Meßmethoden zur Charakterisierung dünner Schichten........................ 15 3.1 Freie Oberflächenenergie................................................................................... 15 3.2 Elektronenstrahl-Mikrosonden-Analyse (EPMA)............................................. 17 3.3 Infrarot-Spektroskopie (IR)............................................................................... 18 3.4 Röntgen-Photoelektonen-Spektroskopie (XPS)................................................ 20 4. Depositionsverfahren und Beschichtungsanlage....................................................... 25 4.1 Plasmaaktivierter CVD-Prozeß......................................................................... 25 4.2 Aufbau der PACVD-Beschichtungsanlage....................................................... 26 4.3 Präparation der Substrate................................................................................... 28 5. Modifizierung der freien Oberflächenenergie amorpher Kohlenwasserstoff-Schichten (a-C:H)....................................................................... 30 5.1 Fluormodifizierte a-C:H Schichten.................................................................... 31 5.2 Siliziummodifizierte a-C:H Schichten............................................................... 38 5.3
Sauerstoffmodifizierte a-C:H Schichten............................................................ 48 5.4 Stickstoffmodifizierte a-C:H Schichten............................................................. 52 6. Einfluß von Sauerstoff auf die freie Oberflächenenergie siliziumorganischer Schichten (a-C:H:Si)................................................................. 58 6.1 TMS-basierte Schichten..................................................................................... 59 6.2 HMDSO-basierte Schichten.............................................................................. 66 6.3 HMDS-basierte Schichten................................................................................. 72 7. Chemische Bindungszustände sauerstoffmodifizierter a-C:H:Si Schichten aus der Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie (XPS).......................... 78 7.1 Entfaltung der Cis-und Si 2 p-Singulettpeaks..................................................... 78 7.2 Quantitativer Vergleich zwischen XPS- und EPMA-Analyse.......................... 81 7.3 Diskussion der quantifizierten Bindungszustände............................................. 85
1 VI 8. Untersuchung der Gasphase siliziumorganischer Precursor mit der Chemischen-Ionisations-Massen-Spektroskopie (CIMS).................................... 92 8.1 Einfluß der negativen Selfbias auf Gasphasenreaktionen................................ 96 8.2 Einfluß von Sauerstoff auf Gasphasenreaktionen.............................................. 99 9. Mechanisch-Tribologische Aspekte........................................................................... 108 9.1 Mikrohärte......................................................................................................... 109 9.2 Abrasivverschleiß.............................................................................................. 111 10. Diskussion.................................................................................................................. 115 11. Zusammenfassung...................................................................................................... 122 Formelzeichen und Abkürzungen...................................................................................... 124 Literaturverzeichnis. 126
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