Jiang, W. (1996). Laser induced chemical etching of silicon at wavelength of 248 nm in chlorine atmosphere.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Jiang, Weidong. Laser Induced Chemical Etching of Silicon at Wavelength of 248 Nm in Chlorine Atmosphere. 1996.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Jiang, Weidong. Laser Induced Chemical Etching of Silicon at Wavelength of 248 Nm in Chlorine Atmosphere. 1996.
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