VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H): Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1995
|
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995 |
| Beschreibung: | 101 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV010747746 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20060309 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 960430s1995 gw ad|| m||| 00||| ger d | ||
| 016 | 7 | |a 946981761 |2 DE-101 | |
| 035 | |a (OCoLC)613541323 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV010747746 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 044 | |a gw |c DE | ||
| 049 | |a DE-91 |a DE-29T |a DE-355 |a DE-11 | ||
| 084 | |a ELT 279d |2 stub | ||
| 084 | |a PHY 690d |2 stub | ||
| 100 | 1 | |a Hapke, Peter |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) |b Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |c vorgelegt von Peter Hapke |
| 264 | 1 | |c 1995 | |
| 300 | |a 101 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 500 | |a Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a UKW |0 (DE-588)4131658-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Wasserstoff |0 (DE-588)4064784-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Mikrokristall |0 (DE-588)4169828-9 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a PECVD-Verfahren |0 (DE-588)4267316-1 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Mikrokristall |0 (DE-588)4169828-9 |D s |
| 689 | 0 | 2 | |a Wasserstoff |0 (DE-588)4064784-5 |D s |
| 689 | 0 | 3 | |a PECVD-Verfahren |0 (DE-588)4267316-1 |D s |
| 689 | 0 | 4 | |a UKW |0 (DE-588)4131658-7 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007177215 | ||
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804125227308810240 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Hapke, Peter |
| author_facet | Hapke, Peter |
| author_role | aut |
| author_sort | Hapke, Peter |
| author_variant | p h ph |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV010747746 |
| classification_tum | ELT 279d PHY 690d |
| ctrlnum | (OCoLC)613541323 (DE-599)BVBBV010747746 |
| discipline | Physik Elektrotechnik |
| format | Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01600nam a2200445 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV010747746</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20060309 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">960430s1995 gw ad|| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="016" ind1="7" ind2=" "><subfield code="a">946981761</subfield><subfield code="2">DE-101</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)613541323</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV010747746</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="044" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">gw</subfield><subfield code="c">DE</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-29T</subfield><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-11</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ELT 279d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">PHY 690d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Hapke, Peter</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H)</subfield><subfield code="b">Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften</subfield><subfield code="c">vorgelegt von Peter Hapke</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1995</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">101 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">UKW</subfield><subfield code="0">(DE-588)4131658-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Wasserstoff</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064784-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Mikrokristall</subfield><subfield code="0">(DE-588)4169828-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">PECVD-Verfahren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4267316-1</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Mikrokristall</subfield><subfield code="0">(DE-588)4169828-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Wasserstoff</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064784-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">PECVD-Verfahren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4267316-1</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="4"><subfield code="a">UKW</subfield><subfield code="0">(DE-588)4131658-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007177215</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV010747746 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T17:58:12Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007177215 |
| oclc_num | 613541323 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-91 DE-BY-TUM DE-29T DE-355 DE-BY-UBR DE-11 |
| owner_facet | DE-91 DE-BY-TUM DE-29T DE-355 DE-BY-UBR DE-11 |
| physical | 101 S. Ill., graph. Darst. |
| publishDate | 1995 |
| publishDateSearch | 1995 |
| publishDateSort | 1995 |
| record_format | marc |
| spelling | Hapke, Peter Verfasser aut VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke 1995 101 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995 UKW (DE-588)4131658-7 gnd rswk-swf Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd rswk-swf Silicium (DE-588)4077445-4 gnd rswk-swf Mikrokristall (DE-588)4169828-9 gnd rswk-swf PECVD-Verfahren (DE-588)4267316-1 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Silicium (DE-588)4077445-4 s Mikrokristall (DE-588)4169828-9 s Wasserstoff (DE-588)4064784-5 s PECVD-Verfahren (DE-588)4267316-1 s UKW (DE-588)4131658-7 s DE-604 |
| spellingShingle | Hapke, Peter VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften UKW (DE-588)4131658-7 gnd Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd Mikrokristall (DE-588)4169828-9 gnd PECVD-Verfahren (DE-588)4267316-1 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4131658-7 (DE-588)4064784-5 (DE-588)4077445-4 (DE-588)4169828-9 (DE-588)4267316-1 (DE-588)4113937-9 |
| title | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_auth | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_exact_search | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_full | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_fullStr | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_full_unstemmed | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_short | VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (myc-Si:H) |
| title_sort | vhf plasmaabscheidung von mikrokristallinem silizium myc si h einfluss der plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen eigenschaften |
| title_sub | Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| topic | UKW (DE-588)4131658-7 gnd Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd Mikrokristall (DE-588)4169828-9 gnd PECVD-Verfahren (DE-588)4267316-1 gnd |
| topic_facet | UKW Wasserstoff Silicium Mikrokristall PECVD-Verfahren Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT hapkepeter vhfplasmaabscheidungvonmikrokristallinemsiliziummycsiheinflussderplasmaanregungsfrequenzaufdiestrukturellenundelektrischeneigenschaften |