Electron beam, X-ray, and ion beam lithographies VI: 5 - 6 March 1987 Santa Clara, Calif.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE, The Internat. Soc. for Optical Engineering 1987
Schriftenreihe:International Society for Optical Engineering: Proceedings of SPIE 773
Schlagworte:
Beschreibung:VI, 265 S.: Ill., graph. Darst.
ISBN:0892528087

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