Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie: = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Keudell, Achim von (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Garching bei München Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik 1996
Schriftenreihe:Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] 110
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:Zugl.: Bayreuth, Univ., Diss., 1996
Beschreibung:93 S. graph. Darst.

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