Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie: = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Garching bei München
Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik
1996
|
Schriftenreihe: | Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9]
110 |
Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
Beschreibung: | Zugl.: Bayreuth, Univ., Diss., 1996 |
Beschreibung: | 93 S. graph. Darst. |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nam a2200000 cb4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV010721201 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 19960710 | ||
007 | t | ||
008 | 960409s1996 gw d||| t||| 00||| ger d | ||
016 | 7 | |a 947119612 |2 DE-101 | |
035 | |a (OCoLC)75679999 | ||
035 | |a (DE-599)BVBBV010721201 | ||
040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
041 | 0 | |a ger | |
044 | |a gw |c DE | ||
049 | |a DE-12 |a DE-19 | ||
088 | |a IPP 9 110 | ||
100 | 1 | |a Keudell, Achim von |e Verfasser |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie |b = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |c Achim von Keudell |
246 | 1 | 1 | |a Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
264 | 1 | |a Garching bei München |b Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik |c 1996 | |
300 | |a 93 S. |b graph. Darst. | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b n |2 rdamedia | ||
338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
490 | 1 | |a Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] |v 110 | |
500 | |a Zugl.: Bayreuth, Univ., Diss., 1996 | ||
810 | 2 | |a 9] |t Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht |v 110 |w (DE-604)BV000012837 |9 110 | |
856 | 4 | 2 | |m DNB Datenaustausch |q application/pdf |u http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=007158902&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |3 Inhaltsverzeichnis |
943 | 1 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007158902 |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1808046418341920768 |
---|---|
adam_text |
INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
GRUNDLAGEN
4
2.1
PLASMAGESTUETZTE
ABSCHEIDUNG
VON
C:H-FILMEN
.
4
2.2
EIGENSCHAFTEN
VON
C:H-FILMEN
UND
DEREN
BESTIMMUNG
.
.
.
6
2.3
SCHICHTDEPOSITION
.
8
2.3.1
OBERFLAECHENREAKTIONEN
NEUTRALER
MOLEKUELE
AUF
C:H-FILMEN
.
8
2.3.2
OBERFLAECHENREAKTIONEN
VON
IONEN
MIT
C:H-FILMEN
.
.
9
2.3.3
WACHSTUMSMODELLE
.
11
2.3.4
EROSION
VON
C:H-FILMEN
.
12
2.4
ELLIPSOMETRIE
.
14
2.5
OPTISCHE
MODELLE
FUER
C:H-SCHICHTEN
.
17
2.5.1
GRUNDLAGEN
.
17
2.5.2
MODELLIERUNG
EINER
IN
SITU
MESSUNG
.
18
2.5.3
MODELLIERUNG
EINER
SPEKTROSKOPISCHEN
MESSUNG
.
19
2.5.4
MODELLIERUNG
VON
OBERFLAECHENEFFEKTEN
.
19
3
EXPERIMENT
22
3.1
ECR-BESCHICHTUNGSPLASMA
.
22
3.2
ELLIPSOMETRISCHER
AUFBAU
.
25
3.2.1
ERZEUGUNG
MONOCHROMATISCHEN
LINEAR
POLARISIERTEN
LICHTS
.
25
3.2.2
DETEKTION
.
26
3.2.3
JUSTIERUNG
UND
KALIBRIERUNG
MESSAUFBAU
.
27
3.3
CHARAKTERISIERUNG
DER
SCHICHTDEPOSITION
.
29
3.3.1
TEILCHENFLUESSE
AUF
DAS
SUBSTRAT
.
29
3.3.2
OPTISCHE
GUETE
DER
SCHICHTOBERFLAECHEN
.
30
3.3.3
OPTISCHE
GUETE
DER
OBERFLAECHE
BEI
DER
EROSION
DURCH
EIN
OA-PLASMA
.
34
3.3.4
TEMPERATURMESSUNG
.
36
4
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
38
4.1
FRAGEN
ZUM
WACHSTUM
VON
C:H-FILMEN
.
38
4.2
EIGENSCHAFTEN
DER
DEPONIERTEN
FILME
.
41
4.3
DIE
KONKURRENZ
DEPOSITION-EROSION
.
42
4.3.1
VERGLEICH
ZWISCHEN
DEPOSITIONS
UND
EROSIONSRATEN
.
.
42
4.3.2
DIE
EROSION
VON
C:H-FILMEN
.
46
4.4
WECHSELWIRKUNG
VON
IONEN
MIT
POLYMERARTIGEN
SCHICHTEN
.
55
4.4.1
WECHSELWIRKUNG
POLYMERARTIGER
FILME
MIT
EINEM
WASSERSTOFFPLASMA
.
55
4.4.2
WECHSELWIRKUNG
POLYMERARTIGER
FILME
MIT
EINEM
METHANPLASMA
.
55
4.4.3
VERGLEICH
MIT
TRIM.SP-RECHNUNGEN
.
57
4.4.4
MODELLVORSTELLUNG
ZUR
WECHSELWIRKUNG
DER
IONEN
MIT
EINEM
POLYMER
ARTIGEN
FILM
.
58
4.4.5
WECHSELWIRKUNG
POLYMERARTIGER
FILME
MIT
EINEM
CD
4
-PLASMA
.
61
4.5
EINFLUSS
DER
IONEN
AUF
DAS
SCHICHTWACHSTUM
.
63
4.5.1
OPTISCHE
ANTWORT
EINER
C:H-FILM-OBERFLAECHE
WAEHREND
DER
DEPOSITION
63
4.5.2
TEST
DER
HYPOTHESE
EINER
MODIFIZIERTEN
OBERFLAECHE
.
67
4.5.3
ABHAENGIGKEIT
DER
OPTISCHEN
ANTWORT
DER
OBERFLAECHENSCHICHT
VON
DEN
BESCHICHTUNGSPARAMETERN
.
70
4.5.4
RELAXATION
DER
MODIFIZIERTEN
OBERFLAECHE
.
72
4.5.5
MODELLVORSTELLUNG
FUER
DIE
MODIFIZIERTE
OBERFLAECHE
.
73
4.5.6
AUSWIRKUNG
DER
MODIFIZIERTEN
OBERFLAECHE
AUF
DAS
WACHSTUM
.
78
4.6
WIE
WACHSEN
C:H-FILME
AUF?
.
.
.
.
83
5
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
86
LITERATURVERZEICHNIS
89 |
any_adam_object | 1 |
author | Keudell, Achim von |
author_facet | Keudell, Achim von |
author_role | aut |
author_sort | Keudell, Achim von |
author_variant | a v k av avk |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV010721201 |
ctrlnum | (OCoLC)75679999 (DE-599)BVBBV010721201 |
format | Book |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>00000nam a2200000 cb4500</leader><controlfield tag="001">BV010721201</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">19960710</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">960409s1996 gw d||| t||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="016" ind1="7" ind2=" "><subfield code="a">947119612</subfield><subfield code="2">DE-101</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)75679999</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV010721201</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="044" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">gw</subfield><subfield code="c">DE</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-12</subfield><subfield code="a">DE-19</subfield></datafield><datafield tag="088" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">IPP 9 110</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Keudell, Achim von</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie</subfield><subfield code="b">= Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry</subfield><subfield code="c">Achim von Keudell</subfield></datafield><datafield tag="246" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Garching bei München</subfield><subfield code="b">Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik</subfield><subfield code="c">1996</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">93 S.</subfield><subfield code="b">graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9]</subfield><subfield code="v">110</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Zugl.: Bayreuth, Univ., Diss., 1996</subfield></datafield><datafield tag="810" ind1="2" ind2=" "><subfield code="a">9]</subfield><subfield code="t">Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht</subfield><subfield code="v">110</subfield><subfield code="w">(DE-604)BV000012837</subfield><subfield code="9">110</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2="2"><subfield code="m">DNB Datenaustausch</subfield><subfield code="q">application/pdf</subfield><subfield code="u">http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=007158902&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA</subfield><subfield code="3">Inhaltsverzeichnis</subfield></datafield><datafield tag="943" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007158902</subfield></datafield></record></collection> |
id | DE-604.BV010721201 |
illustrated | Illustrated |
indexdate | 2024-08-22T00:43:50Z |
institution | BVB |
language | German |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-007158902 |
oclc_num | 75679999 |
open_access_boolean | |
owner | DE-12 DE-19 DE-BY-UBM |
owner_facet | DE-12 DE-19 DE-BY-UBM |
physical | 93 S. graph. Darst. |
publishDate | 1996 |
publishDateSearch | 1996 |
publishDateSort | 1996 |
publisher | Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik |
record_format | marc |
series2 | Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] |
spelling | Keudell, Achim von Verfasser aut Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry Achim von Keudell Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry Garching bei München Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik 1996 93 S. graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] 110 Zugl.: Bayreuth, Univ., Diss., 1996 9] Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht 110 (DE-604)BV000012837 110 DNB Datenaustausch application/pdf http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=007158902&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA Inhaltsverzeichnis |
spellingShingle | Keudell, Achim von Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
title | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
title_alt | Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
title_auth | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
title_exact_search | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
title_full | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry Achim von Keudell |
title_fullStr | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry Achim von Keudell |
title_full_unstemmed | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry Achim von Keudell |
title_short | Wachstumsmechanismen bei der plasmagestützten Abscheidung von Kohlenwasserstoffschichten, eine in situ Ellipsometriestudie |
title_sort | wachstumsmechanismen bei der plasmagestutzten abscheidung von kohlenwasserstoffschichten eine in situ ellipsometriestudie growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films investigated by in situ ellipsometry |
title_sub | = Growth mechanisms during the plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry |
url | http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=007158902&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |
volume_link | (DE-604)BV000012837 |
work_keys_str_mv | AT keudellachimvon wachstumsmechanismenbeiderplasmagestutztenabscheidungvonkohlenwasserstoffschichteneineinsituellipsometriestudiegrowthmechanismsduringtheplasmaenhancedchemicalvapordepositionofhydrocarbonfilmsinvestigatedbyinsituellipsometry AT keudellachimvon growthmechanismsduringtheplasmaenhancedchemicalvapordepositionofhydrocarbonfilmsinvestigatedbyinsituellipsometry |