Plasma etching for integrated silicon sensor applictions:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Li, Yuan Xiong (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Delft Univ. Press 1995
Schlagworte:
Beschreibung:Zugl.: Delft, Techn. Univ., Diss., 1995
Beschreibung:XI, 221 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:9040711771

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!