Ein anisotroper Plasmaätzprozess in Silizium für die Mikromechanik:
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | Abschlussarbeit Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
1995
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INHALTSVERZEICHNIS
L
EINLEITUNG
1
2.
ZIELSTELLUNGEN
3
2.1
STAND
DER
TECHNIK
.
3
2.2
ALTERNATIVE
VERFAHREN
.
6
3.
MSSMSKTZEN
10
3.1
ZUM
BEGRIFF
DES
PLASMAS
.
10
3.2
STOSSPROZESSE
.
13
3.2.1
ZUR
BEWEGLICHKEIT
DER
LADUNGSTRAEGER
.
13
3.2.2
WIRKUNGSQUERSCHNITT
UND
MITTLERE
FREIE
WEGLAENGE
.
14
3.2.3
ELASTISCHE
STOSSPROZESSE
.
15
3.2.4
REAKTIONSRATE
UND
ELEKTRONENENERGIE
-
VERTEILUNGSFUNKTION
.
.
16
3.2.5
INELASTISCHE
STOSSPROZESSE
.
18
3.3
ELEKTRISCHE
EIGENSCHAFTEN
DES
HF-PLASMAS
.
25
3.3.1
POTENTIALE
.
25
3.3.2
ELEKTRISCHES
ERSATZSCHALTBILD
.
26
3.4
ENERGIEVERTEILUNG
DER
PROJEKTILE
IM
DUNKELRAUM
.
28
3.4.1
KOLLISIONSFREIER
HF-DUNKELRAUM
.
28
3.4.2
KOLLISIONSBESTIMMTER
HF-DUNKELRAUM
.
29
3.5
AETZMECHANISMEN
.
31
3.5.1
EINTEILUNG
DER
AETZVERFAHREN
.
32
3.5.2
BELADUNGSEFFEKT
.
36
3.5.3
ANISOTROPES
AETZEN
DURCH
SEITENWANDPASSIVIERUNG
.
38
3.6
DER
SF-CBRF
-PROZESS
.
38
O
3
3.6.1
WIRKUNGSWEISE
.
38
3.6.2
AUSWIRKUNGEN
DER
PARAMETER
.
41
3.7
SIMULATION
.
43
4.
PHOTOLITHOGRAPHIE
48
4.1
POSITIVPHOTOLACK
.
48
4.1.1
WIRKUNGSWEISE
.
48
4.1.2
VOR
UND
NACHBEHANDLUNG
.
49
4.1.3
AUSBILDUNG
VON
PHOTOLACKSTRUKTUREN
.
50
4.1.4
DREIEBENEN-PHOTOLACKTECHNIK
.
53
4.2
KONTAKTBELICHTUNG
.
54
5.
ANALYTISCHE
METHODEN
56
S.L
ELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
FUER
DIE
CHEMISCHE
ANALYSE
(ESCA)
.
56
5.1.1
GRUNDLAGEN
.
56
5.1.2
APPARATIVER
AUFBAU
.
58
5.1.2.1
STRAHLUNGSQUELLEN
.
58
S.1.2.2
ELEKTRONENSPEKTROMETER
.
59
5.2
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
(REM)
.
59
5.2.1
APPARATIVER
AUFBAU
.
60
S.2.2
WIRKUNGSWEISE
.
61
5.2.3
ERZEUGUNG
VON
KONTRAST
.
62
5.3
MECHANISCHE
SCHICHTDICKENMESSUNG
.
63
6.
PROZESSCHARAKTERISIERUNG
DES
SF-CBRF-PROZESSES
65
O
3
6.1
WIRKUNGSWEISE
.
65
6.1.1
EINFLUSS
DER
PROZESSPARAMETER
AUF
DAS
PROFIL
.
66
6.1.1.1
PARALLELPLATTENREAKTOR
.
66
6.1.1.1.1
AUFBAU
.
66
6.1.1.1.2
SPEZIFIKATIONEN
.
68
6.1.1.2
QUERSCHNITTUNTERSUCHUNGEN
.
68
6.1.1.3
PROBENPRAEPARATION
.
69
6.1.1.4
STRUKTUREIGENSCHAFTEN
.
70
6.1.2
SIMULATION
.
72
6.1.2.1
UEBERPRUEFUNG
DES
MODELLS
.
72
6.1.2.2
VORHERSAGENDER
CHARAKTER
.
73
6.1.2.3
EINFLUSS
DER
STRUKTURBREITE
.
74
6.1.3
ESCA-UNTERSUCHUNGEN
.
75
6.1.3.1
ESCA-ANLAGE
UND
PROBENPRAEPARATION
.
75
6.1.3.2
ZUSAMMENSETZUNG
DER
PASSIVIERENDEN
SCHICHTEN
.
76
6.2
PROZESSEIGENSCHAFTEN
.
77
6.2.1
AETZRATE
UND
SELEKTIVITAET
.
77
6.2.2
HOMOGENITAET
DER
AETZRATE
.
80
6.2.3
EINSTELLBARKEIT
DER
AETZTIEFE
.
81
6.2.4
RAUHIGKEITEN
.
82
6.3
PHOTOLITHOGRAPHIE
.
83
6.4
EIN
ALTERNATIVER
PLASMAAETZPROZESS
MIT
SF
FE
UND
O
2
.
85
7.
ANWENDUNGEN
86
7.1
GALVANISCHE
ABFORMUNG
EINER
SILIZIUMSTRUKTUR
.
86
7.1.1
GRUNDLAGEN
.
87
7.1.1.1
GALVANISCHE
NICKELABSCHEIDUNG
UND
STROMAUSBEUTE
.
87
7.1.1.2
MECHANISMUS
DER
KATHODISCHEN
METALLABSCHEIDUNG
UND
GRENZSTROMDICHTE
.
89
7.1.1.3
METALLABSCHEIDUNG
AUS
SULFAMATELEKTROLYTEN
.
91
7.1.1.4
IMPULS-GALVANISIERUNG
.
94
7.1.2
GALVANISCHE
ABSCHEIDUNG
AUF
SILIZIUM
.
94
7.1.3
ANISOTROPES
ABSCHEIDEVERFAHREN
.
95
7.1.4
PROZESSEIGENSCHAFTEN
.
96
7.2
LASER-FASER-KOPPLER
.
97
7.2.1
ANFORDERUNGEN
AN
DIE
GEOMETRIE
.
97
7.2.2
PROZESSABLAUF
.
99
7.2.2.1
AETZEN
DES
FASERGRABENS
.
100
7.2.2.2
FIXIERUNG
DER
FASER
.
100
7.2.2.3
AETZEN
DER
LASERFUEHRUNG
.
101
8.
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
102
9.
ANHANG
105
AL
VERZEICHNIS
DER
VERWENDETEN
FORMELZEICHEN
.
105
A2
LITERATURVERZEICHNIS
.
109
A3
TABELLEN
.
113
A4
BILDER
.
122 |
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