Maskentechnik für Mikroelektronik-, Mikrotechnik-Bauteile: Tagung München, 25. und 26. Oktober 1995
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VDI-Verl.
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S. Steuber, G.
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Juffermanns
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P. Prewett
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G. Stengl, H. Vonach
M.
Schmidt,
W.
Ehrfeld und
H.
Lehr
Α.
Siebert
H.-J. Brück,
G. Falk,
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Walden
Lithographie der Zukunft
OAI, PSM and OPC -
A
review
of aerial image enhancing
19
techniques for optical projection lithography
Optische
Proximity
Korrekturmethoden in der Masken- 45
technik
zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften
First
Experience with
Phase-Shift-Mask Technology 51
WePrint 200, der Übergang vom variablen Formstrahl 87
zur Minireticles-Projektion
Minireticle für die Elektronensrrahllithographie 97
Stencil
Masken für die lonen-Projektions- 113
Lithographie und für die maskierte lonenstrahl·
Lithographie
Röntgentiefenlirhographie - LIGA-Technik 119
Finite-Elemente Berechnungen zur Maskentechnik 133
Anwendungen
I
ichtoptischer Verfahren zur 151
Strukturbreiten- und Overlay-Messung
Referenten
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