Herstellung, strukturelle und elektrische Eigenschaften gesputterter YBa 2 Cu 3 O 7-x -Schichten und Mehrlagensysteme für kryoelektronische Anwendungen:
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INHALT
1. EINLEITUNG. 1
2. HERSTELLUNG DUENNER SCHICHTEN DURCH MAGNETRONSPUTTEM.4
2.1. GRUNDPRINZIP.4
2.2. DIE BESONDERHEITEN BEI DER SPUTTERABSCHEIDUNG VON YBCO.16
2.3. MOEGLICHE MODIFIZIERUNGEN DES MAGNETRONSPUTTEMS VON
STOECHIOMETRISCHEN
YBCO-SCHICHTEN.18
2.4. VERWENDETE MAGNETRONTYPEN.22
2.5. PHASENSTABILITAET VON YBCO IN SAUERSTOFF.25
3. DAS WACHSTUM DUENNER SCHICHTEN.28
3.1. MODELLE ZUR BESCHREIBUNG DES SCHICHTWACHSTUMS.28
3.2. METHODEN ZUR UNTERSUCHUNG DES SCHICHTWACHSTUMS.29
3.2.1. GRUNDLAGEN DIFFRAKTIVER METHODEN. 29
3.2.2. ROENTGENBEUGUNG. 31
3.2.3. RHEED.38
4. ERGEBNISSE ZUM SCHICHTWACHSTUM.43
'4.1. SYSTEM SAPHIR/CE02/NCC0/YBC0.43
4.2. GENERIERUNG EINER 45-KOMGRENZE.48
4.2.1. KOMGRENZE - MATERIALASPEKT.48
4.2.2. BIEPITAXIE AUF MGO UND SAPHIR.50
4.3. UNTERSUCHUNGEN ZUM WACHSTUMSVERHALTEN DURCH RHEED.53
4.4. HERSTELLUNG VON HILFSSCHICHTEN.58
5. JOSEPHSON-KONTAKTE.62
5.1. GRUNDLAGEN ZUM JOSEPHSON-KONTAKT.62
5.1.1. U-I-KURVEN UND RSJ-MODELL.63
5.1.2. EINFLUSS THERMISCHER FLUKTUATIONEN AUF DIE U-I-KURVE.66
5.1.3. ANDERE MOEGLICHKEITEN ZUR REALISIERUNG VON WEAK LINK-STRUKTUREN.69
5.1.4. WECHSELSTROMVERHALTEN VON JOSEPHSON-KONTAKTEN.71
5.1.5. ADIABATISCHE NAEHERUNG ZUR BESCHREIBUNG DER U-I-KURVE EINES
JOSEPHSON-
KONTAKTES BEI MIKROWELLENEINSTRAHLUNG.72
5.2. UNTERSUCHUNGEN ZUM JOSEPHSONVERHALTEN BIEPITAKTISCHER KONTAKTE.76
5.2.1. TEMPERATURABHAENGIGKEIT DER KRITISCHEN PARAMETER BIEPITAKTISCHER
KONTAKTE.76
5.2.2. VERHALTEN DER BIEPITAKTISCHEN KONTAKTE BEI
MIKROWELLENEINSTRAHLUNG.78
5.3. UNTERSUCHUNGEN ZUM JOSEPHSONVERHALTEN AN BIKRISTALLKONTAKTEN.80
BIBLIOGRAFISCHE INFORMATIONEN
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5.3.1. TEMPERATURABHAENGIGKEIT DER KRITISCHEN PARAMETER VON
BIKRISTALLKONTAKTEN.80
5.3.2. VERHALTEN DER BIKRISTALLKONTAKTE BEI MIKROWELLENEINSTRAHLUNG.83
5.4. VERGLEICH BIKRISTALL - BIEPITAXIE.85
6. ZUSAMMENFASSUNG.88
7. EXPERIMENTELLER TEIL.91
7.1. BESCHICHTUNGSANLAGE.91
7.2. RHEED.92
7.3. ROENTGENDIFFRAKTOMETER.96
7.4. SUBSTRATHEIZER.96
7.5. IONENSTRAHL-AETZEN.97
7.6. MESSUNG DER SCHICHTZUSAMMENSETZUNG.97 |
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