Einsatz alternativer Depositionsmethoden zur Herstellung amorpher Siliziumlegierungen:
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Jülich
Forschungszentrum, Zentralbibliothek
1995
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3087 |
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1
INHALTSVERZEICHNIS
ABBILDUNGS
UND
TABELLENVERZEICHNIS
3
1
EINLEITUNG
6
2
MATERIALEIGENSCHAFTEN
AMORPHER
HALBLEITER
9
2.1
STRUKTUR
UND
DEFEKTDICHTE
.
9
2.2
DER
STAEBLER-WRONSKI
EFFEKT
.
11
3
DEPOSITION
AMORPHER
SILIZIUMLEGIERUNGEN
13
3.1
GRUNDLAGEN
ZUM
WACHSTUM
.
13
3.2
GASPHASEN-UND
OBERFLAECHENREAKTIONEN
.
17
3.3
DEPOSITIONSMETHODEN
.
21
3.3.1
PLASMAUNTERSTUETZTE
CVD
.
21
3.3.2
REMOTE
PLASMA
CVD
UND
CHEMICAL
ANNEALING
.
23
3.3.3
PHOTO
CVD
.
24
3.3.4
HOTWIRECVD
.
25
4
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
27
4.1
CHARAKTERISIERUNG
DER
MATERIALEIGENSCHAFTEN
.
27
4.1.1
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
.
27
4.1.2
LEITFAEHIGKEITSMESSUNGEN
.
33
4.1.3
BESTIMMUNG
DER
DEFEKTZUSTANDSDICHTE
.
35
4.1.4
BESTIMMUNG
DES
OPTISCHEN
GAPS
.
36
4.1.5
WEITERE
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
.
38
4.2
CHARAKTERISIERUNG
DER
GASPHASE
.
41
2
INHALTSVERZEICHNIS
5
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
43
5.1
DAS
HEISSBLECHVERFAHREN
.
43
5.2
DER
MEHRQUELLENREAKTOR
.
44
5.3
DIE
THERMISCHE
RADIKALQUELLE
.
47
5.4
DIE
MIKROWELLEN-PLASMAQUELLE
.
49
6
EXPERIMENTELLE
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
54
6.1
EIGENSCHAFTEN
DER
HEISSBLECH
A-SI:H
SCHICHTEN
.
55
6.2
HOT
WIRE
A-SI:H
.
63
6.2.1
VORVERSUCHE
.
63
6.2.2
SCHICHTWACHSTUM
AUF
UNTERSCHIEDLICHEN
SUBSTRATEN
.
65
6.2.3
VARIATION
DER
FILAMENTTEMPERATUR
.68
6.2.4
EINFLUSS
VON
GASFLUSS
UND
SUBSTRATTEMPERATUR
AUF
DIE
SCHICHTEIGENSCHAFTEN
.
71
6.2.5
DEGRADATIONSEXPERIMENTE
.80
6.2.6
UNTERSUCHUNGEN
DER
GASPHASE
.
82
6.2.7
DISKUSSION
UND
INTERPRETATION
DER
ERGEBNISSE
ZUM
A-SI:H-WACHSTUM
.84
6.3
HOT
WIRE
A-GE:H
.
88
6.4
HOT
WIRE
A-SI^GE^H
.
97
6.5
GASZERSETZUNG
IN
DER
MIKROWELLENQUELLE
.
106
7
ZUSAMMENFASSUNG
114
ANHANG
RESONATOREN
FUER
DIE
MIKROWELLENANREGUNG
VON
GASENTLADUNGEN
117
LITERATURVERZEICHNIS
120 |
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