Die Rolle von Ionen und Radikalen bei der plasmagestützten Abscheidung amorpher wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten: = The role of ions and radicals in plasma enhanced deposition of amorphous hydrogenated carbon films
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Lange, Klaus (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Garching bei München Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik 1995
Schriftenreihe:Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] 106
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:Zugl.: München, Univ., Diss., 1995
Beschreibung:133 S. graph. Darst.

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