Untersuchungen zu den Ursachen der Absorption in oxidischen ionenstrahlgesputterten optischen Schichten:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
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1994
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2
INHALTSVERZEICHNIS
EINLEITUNG
4
1.
ABSORPTION
IM
TRANSPARENZBEREICH
AMORPHEN
MATERIALS
8
1.1
BESCHREIBUNG
DER
ABSORPTION
IM
GEBIET
OPTISCHER
TRANSPARENZ
8
1.2.
URSACHEN
DER
ABSORPTION
IM
TRANSPARENZGEBIET
AM
BEISPIEL
SIO
2
9
1.2.1.
TRANSPARENZGEBIET
VON
SIO
2
9
1.2.2.
ABSORPTION
DURCH
STRUKTURSCHADEN
IM
AMORPHEN
MATERIAL
11
1.2.3.
ABSORPTION
DURCH
FREMDBESTANDTEILE
13
2.
ANWENDUNG
DES
LONENSTRAHLSPUTTEMS
ZUR
HERSTELLUNG
DER
SCHICHTEN
15
2.1
TECHNOLOGIE
DES
LONENSTRAHLSPUTTEMS
15
2.1.1.
PRINZIP
DES
LONENSTRAHLSPUTTEMS
15
2.1.2.
ERZEUGUNG
DES
PLASMAS
IN
DER
LONENQUELLE
16
2.1.3.
EXTRAKTION
DES
LONENSTRAHLS
17
2.1.4.
NEUTRALISIERUNG
DES
LONENSTRAHLS
20
2.2.
DIE
UHV-ZWEIKAMMERANLAGE
21
2.2.1.
KONZEPT
UND
AUFBAU
DER
ANLAGE
21
2.2.2.
BETRIEB
DER
ECR-IONENQUELLE
24
2.2.3.
BETRIEB
DES
ECR-NEUTRALISIERERS
26
3.
MESSUNG
DER
ABSORPTION
27
3.1.
PHOTOTHERMISCHE
STRAHLABLENKUNG
UND
LASERKALORIMETRIE
27
3.2.
ABSORPTIONSMESSUNGEN
AN
DUENNEN
INTERFERENZSCHICHTEN
28
4.
NACHWEIS
VON
VERUNREINIGUNGEN
30
4.1.
VERFAHREN
ZUM
VERUNREINIGUNGSNACHWEIS
IN
DUENNEN
SCHICHTEN
30
4.2.
SEKUNDAERIONEN
MASSENSPEKTROMETRIE
(SIMS)
32
4.2.1.
GRUNDSAETZLICHES
ZU
SIMS
32
4.2.2.
SIMS
AN
NICHTLEITERN
MIT
LADUNGSKOMPENSATION
33
4.2.3.
KALIBRIEREN
DER
SIMS-MESSUNGEN
37
4.2.4.
IONENIMPLANTATIONEN
ZUR
SIMS-KALIBRIERUNG
39
4.2.5.
SYSTEMATIK
DER
RELATIVEN-EMPFINDLICHKEITS-FAKTOREN
(RSF)
43
4.3.
TOTALREFLEXIONS-ROENTGENFLUORESZENZANALYSE
(TRFA)
47
4.4.
VERSCHIEDENE
ERGAENZENDE
VERUNREINIGUNGSANALYSEVERFAHREN
48
3
5.
EXPERIMENTELLE
ERGEBNISSE
DER
SCHICHTUNTERSUCHUNGEN
49
5.1.
VERUNREINIGUNGEN
IN
DEN
SPUTTERSCHICHTEN
49
5.1.1.
EINBAU
VON
SPUTTEIGAS
49
5.1.2.
KOHLENSTOFFEINBAU
VOM
GRAFITGITTER
51
5.1.3
EINBAU
VON
MATERIALIEN
DER
TARGETUMGEBUNG
55
5.1.4.
EINBAU
VON
WASSER
56
5.2.
ANTEIL
DER
VERUNREINIGUNG
AN
DER
ABSORPTION
58
5.2.1.
VERUNREINIGUNGS-ABSORPTIONSEMPFINDLICHKEITS-FAKTOREN
58
5.2.2.
VERUNREINIGUNGSBEITRAEGE
IN
DEN
TIO
2
-SCHICHTEN
60
5.2.3.
VERUNREINIGUNGSBEITRAEGE
IN
DEN
SIO
2
-SCHICHTEN
62
5.3.
PROZESSSCHAEDEN
BEI
OXIDIERTEN
TARGETS
64
5.3.1.
EINFLUSS
DES
SPUTTERGASES
BEI
TIO
2
-SCHICHTEN
64
5.3.2.
EINFLUSS
DES
SPUTTERGASES
BEI
SIO
2
-SCHICHTEN
66
5.4.
PROZESSSCHAEDEN
BEIM
UEBERGANG
VOM
OXID
ZUM
METALL-TARGET
67
5.4.1.
PROZESSEINFLUESSE
DES
REAKTIVGASES
BEI
TIO
2
-SCHICHTEN
67
5.4.2.
PROZESSEINFLUESSE
DES
REAKTIVGASES
BEI
SIO
2
-SCHICHTEN
69
6.
SPUTTERSIMULATIONEN
ZUR
KLAERUNG
DER
PROZESSSCHAEDEN
72
6.1.
BENUTZUNG
DES
TRIM-PROGRAMMS
72
6.2.
TRIM-ERGEBNISSE
FLIR
DIE
VORLIEGENDEN
SPUTTERBEDINGUNGEN
74
6.3.
BERECHUNG
DES
ENERGIEEINTRAGS
IN
DIE
SUBSTRATEBENE
80
6.4.
ERGEBNISSE
FUER
VOLLSTAENDIG
OXIDIERTE
TARGETS
82
6.4.1.
VERSCHIEDENE
ENERGIEEINTRAEGE
IN
DIE
SCHICHT
82
6.4.2.
ENERGIEEINTRAEGE
DER
VERSCHIEDENEN
SPUTTERGASE
85
6.5.
ERGEBNISSE
ZUM
UEBERGANG
VOM
OXID
ZUM
METALLTARGET
86
6.5.1.
ENERGIEEINTRAG
IN
SIO
2
-SCHICHTEN
86
6.5.2.
ENERGIEEINTRAG
IN
TIO
2
-SCHICHTEN
89
6.6.
MOEGLICHKEITEN
ZUR
WEITEREN
REDUKTION
DES
ENERGIEEINTRAGS
91
6.7.
BETRACHTUNGEN
ZUR
ART
DER
SCHAEDIGUNG
IN
DEN
SIO
2
-SCHICHTEN
92
7.
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
94
8.
LITERATURVERZEICHNIS
96
ANHANG:
2
BILDER
DER
ANLAGE
101 |
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