Einsatz alternativer Depositionsmethoden zur Herstellung amorpher Siliziumlegierungen:
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INHALTSVERZEICHNIS
ABBILDUNGS- UND TABELLENVERZEICHNIS 3
1 EINLEITUNG 6
2 MATERIALEIGENSCHAFTEN AMORPHER HALBLEITER^ 9
2.1 STRUKTUR UND DEFEKTDICHTE. 9
2.2 DER STAEBLER-WRONSKI EFFEKT. 11
3 DEPOSITION AMORPHER SILIZIUMLEGIERUNGEN 13
3.1 GRUNDLAGEN ZUM WACHSTUM. 13
3.2 GASPHASEN-UND OBERFLAECHENREAKTIONEN. 17
3.3 DEPOSITIONSMETHODEN. 21
3.3.1 PLASMAUNTERSTUETZTE CVD. 21
3.3.2 REMOTE PLASMA CVD UND CHEMICAL ANNEALING. 23
3.3.3 PHOTO CVD. 24
3.3.4 HOTWIRE CVD. 25
4 CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN 27
4.1 CHARAKTERISIERUNG DER MATERIALEIGENSCHAFTEN. 27
4.1.1 INFRAROTSPEKTROSKOPIE. 27
4.1.2 LEITFAHIGKEITSMESSUNGEN. 33
4.1.3 BESTIMMUNG DER DEFEKTZUSTANDSDICHTE. 35
4.1.4 BESTIMMUNG DES OPTISCHEN GAPS. 36
4.1.5 WEITERE CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN. 38
4.2 CHARAKTERISIERUNG DER GASPHASE. 41
BIBLIOGRAFISCHE INFORMATIONEN
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2
INHALTSVERZEICHNIS
5 EXPERIMENTELLER AUFBAU 43
5.1 DAS HEISSBLECHVERFAHREN.43
5.2 DER MEHRQUELLENREAKTOR.44
5.3 DIE THERMISCHE RADIKALQUELLE.47
5.4 DIE MIKROWELLEN-PLASMAQUELLE.49
6
EXPERIMENTELLE ERGEBNISSE UND DISKUSSION 54
6.1 EIGENSCHAFTEN DER HEISSBLECH A-SI:H SCHICHTEN.55
6.2 HOT WIRE A-SI:H.63
6.2.1 VORVERSUCHE. 63
\
6 .2.2 SCHICHTWACHSTUM AUF UNTERSCHIEDLICHEN SUBSTRATEN.65
6.2.3 VARIATION DER FILAMENTTEMPERATUR.68
6.2.4 EINFLUSS VON GASFLUSS UND SUBSTRATTEMPERATUR AUF DIE
SCHICHTEIGENSCHAFTEN.71
6.2.5 DEGRADATIONSEXPERIMENTE. 80
6.2.6 UNTERSUCHUNGEN DER GASPHASE. 82
6.2.7 DISKUSSION UND INTERPRETATION DER ERGEBNISSE ZUM
A-SI:H-WACHSTUM. 84
6.3 HOT WIRE A-GE:H. 88
6.4 HOT WIRE A-SI^GE^H.*.97
6.5 GASZERSETZUNG IN DER MIKROWELLENQUELLE.106
7 ZUSAMMENFASSUNG 114
ANHANG RESONATOREN FUER DIE MIKROWELLENANREGUNG
VON GASENTLADUNGEN 117
LITERATURVERZEICHNIS
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