Herstellung dünner YBa 2 Cu 3 O 7-delta -Schichten durch getaktete Elektronenstrahlverdampfung im ECR-Plasma:
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INHALT
S
VERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
DUENNE
SCHICHTEN
AUS
HOCH-T
C
-SUPRALEITERN
5
2.1
KRISTALLSTRUKTUR
UND
ELEKTRONISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
6
2.1.1
LADUNGSTRANSFER-MODELL
.
7
2.1.2
SAUERSTOFFORDNUNG
IN
YE^CUSOY-^
.
8
2.2
FILMWACHSTUM
UND
DEFEKTE
.
9
2.2.1
FILMWACHSTUMS-MECHANISMUS
.
10
2.2.2
DEFEKTE
IN
HTSL-DUENNSCHICHTEN
.
11
2.2.3
SAUERSTOFFEINBAU
BEI
DER
IN-SITU-PRAEPARATION
.
.
14
2.2.4
EINFLUSS
DER
SUBSTRATTEMPERATUR
.
21
2.3
PRAEPARATIONSVERFAHREN
.
23
2.3.1
AUFDAMPFVERFAHREN
.
24
2.3.2
LASERDEPOSITION
.
27
2.3.3
SPUTTERN
.
28
2.3.4
CHEMISCHE
GASPHASENEPITAXIE
.
30
2.4
SUBSTRATE
.
30
2.4.1
SUBSTRATE
OHNE
DIFFUSIONSBARRIERE
.
31
2.4.2
SUBSTRATE
MIT
DIFFUSIONSBARRIERE
.
33
3
UMBAU
DER
AUFDAMPFANLAGE
35
3.1
REZIPIENT
.
37
3.2
GETAKTETE
ELEKTRONENSTRAHLVERDAMPFUNG
.
40
3.2.1
PRINZIP
DER
GETAKTETEN
ELEKTRONENSTRAHLVER
DAMPFUNG
.
41
3.2.2
AUFBAU
DER
STRAHLSTEUERUNGSELEKTRONIK
.
45
3.3
QUADRUPOLMASSENSPEKTROMETER
.
47
3.4
ECR-IONENQUELLE
.
49
3.4.1
FUNKTIONSWEISE
DER
ECR-IONENQUELLE
.
52
3.4.2
AUFBAU
DER
ECR-IONENQUELLE
.
54
3.4.3
EINFLUSS
DES
MAGNETFELD-VERLAUFE
.
57
3.4.4
STRAHLENSCHUTZ
.
59
4
VORVERSUCHE
ZUR
YBA2CU3O7_^-AUFDAMPFUNG
61
4.1
DAS
MASSENSPEKTROMETER
ALS
SENSOR
ZU
RATENKONTROLLE
61
4.2
RATENREGELUNG
BEI
GETAKTETER
ELEKTRONENSTRAHLVER
DAMPFUNG
.
67
4.3
VERMESSUNG
DER
ECR-IONENQUELLE
.
80
5
HERSTELLUNG
DUENNER
YBA2CU3O7_J-SCHICHTEN
87
5.1
PROZESSFUEHRUNG
.
87
5.2
OPTIMIERUNG
DER
STOECHIOMETRIE
.
89
5.3
QUALITAET
DER
HERGESTELLTEN
SCHICHTEN
.
93
5.3.1
FE-DOTIERUNG
DER
SCHICHTEN
.
93
5.3.2
EINFLUSS
DER
ECR-IONENQUELLE
.
95
5.4
ROENTGENBEUGUNG
.
99
5.5
OBERFLAECHENBILDER
MIT
REM
UND
AFM
.
101
6
ZUSAMMENFASSUNG
105
A
ANHANG:
EINSTELLUNGEN
VON
ELSA
UND
QMG420
108
LITERATURVERZEICHNIS
117 |
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