Entwicklung und Optimierung von Prozesskomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren: mit 7 Tabellen
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|---|---|
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| Language: | German |
| Published: |
Berlin u.a.
Springer
1994
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| Series: | Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung <Stuttgart>: IPA-IAO-Forschung und -Praxis
202 |
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INHALTSVERZEICHNIS
0
ABKUERZUNGSVERZEICHNIS
.
11
1
EINLEITUNG
.
15
2
ENTWICKLUNGSBEDARF
IN
DER
PVD-TECHNOLOGIE
.
17
3
AUFGABENSTELLUNG
.
19
4
PVD-VERFAHRENSTECHNOLOGIE
.
20
4.1
GRUNDLAGEN
.
21
4.1.1
VAKUUM
.
21
4.1.2
NIEDERTEMPERATURPLASMA
.
24
4.1.3
GASENTLADUNGEN
.
26
4.2
BESCHICHTUNGSTECHNOLOGIEN
.
31
4.2.1
LICHTBOGEN-VERDAMPFEN
.
31
4.2.2
SPUTTERN
.
34
4.2.3
PROZESSABLAUF
.
36
4.3
KONVENTIONELLE
METHODEN
DES
IONENUNTERSTUETZTEN
ABSCHEIDENS
.
39
4.3.1
DC-BIASSPANNUNG
.
40
4.3.2
LONENSTRAHLUNTERSTUETZTES
PVD-BESCHICHTEN
.
41
4.3.3
WIRKUNG
DES
TEILCHENBESCHUSSES
AUF
DIE
SCHICHTEIGENSCHAFTEN
.
43
4.3.4
VERWENDUNG
GEPULSTER
PLASMEN
IN
DER
SCHICHTTECHNIK
.
53
4.4
MESSVERFAHREN
.
54
5
DIE
UEBERLAGERT
GEPULSTE
BIASSPANNUNG
.
60
5.1
AUFBAU
.
61
5.2
GRUNDLEGENDE
BETRACHTUNGEN
ZUR
UEBERLAGERT
GEPULSTEN
BIASSPANNUNG
.
63
-
10
6
WIRKUNGEN
DER UEBERLAGERT
GEPULSTEN
BIASSPANNUNG
AUF
DIE
PROZESSBEDINGUNGEN
.
70
6.1
BESCHICHTUNGSTEMPERATUR
.
71
6.2
LONENSTROMDICHTE
.
74
6.3
LONENENERGIE
.
78
7
ERGEBNISSE
DER
BESCHICHTUNGSVERSUCHE
.
85
7.1
ABSCHEIDERATE
.
85
7.2
BEVORZUGTE
KRISTALLORIENTIERUNG
.
87
7.3
MIKROSTRUKTUR
.
88
7.4
SCHICHTEIGENSPANNUNGEN
.
96
7.5
VERBUNDFESTIGKEIT,
HAFTFESTIGKEIT
.
98
7.6
MIKROHAERTE
.
102
7.7
RAUHEIT
.
104
7.8
KORROSIONSBESTAENDIGKEIT
.
106
8
ANWENDUNGSBEISPIELE
.108
9
BEWERTUNG
DER
ERGEBNISSE
.112
10
ZUSAMMENFASSUNG
.
114
11
AUSBLICK
.117
12
LITERATURVERZEICHNIS
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