Schmitz, J. E. (1992). Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides: For VLSI/ULSI applications. Noyes.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Schmitz, John E. Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides: For VLSI/ULSI Applications. Park Ridge, NJ: Noyes, 1992.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Schmitz, John E. Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides: For VLSI/ULSI Applications. Noyes, 1992.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.