Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1994
|
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | III, 115 S. Ill., zahlr. graph. Darst. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV009797008 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 19980302 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 940908s1994 ad|| m||| 00||| gerod | ||
| 016 | 7 | |a 942204506 |2 DE-101 | |
| 035 | |a (OCoLC)75535756 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV009797008 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-29 |a DE-29T |a DE-12 |a DE-703 |a DE-355 |a DE-91 |a DE-83 |a DE-11 |a DE-188 | ||
| 084 | |a UP 7550 |0 (DE-625)146434: |2 rvk | ||
| 084 | |a ELT 280d |2 stub | ||
| 084 | |a FER 882d |2 stub | ||
| 084 | |a ELT 072d |2 stub | ||
| 100 | 1 | |a Rottner, Kurt |d 1966- |e Verfasser |0 (DE-588)114412685 |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid |c vorgelegt von Kurt Rottner |
| 264 | 1 | |c 1994 | |
| 300 | |a III, 115 S. |b Ill., zahlr. graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 502 | |a Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1994 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a Dünne Schicht |0 (DE-588)4136925-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a CVD-Verfahren |0 (DE-588)4009846-1 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Epitaxieschicht |0 (DE-588)4152546-2 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Siliciumcarbid |0 (DE-588)4055009-6 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a Siliciumcarbid |0 (DE-588)4055009-6 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a CVD-Verfahren |0 (DE-588)4009846-1 |D s |
| 689 | 0 | 2 | |a Epitaxieschicht |0 (DE-588)4152546-2 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 689 | 1 | 0 | |a Siliciumcarbid |0 (DE-588)4055009-6 |D s |
| 689 | 1 | 1 | |a Dünne Schicht |0 (DE-588)4136925-7 |D s |
| 689 | 1 | 2 | |a CVD-Verfahren |0 (DE-588)4009846-1 |D s |
| 689 | 1 | |5 DE-604 | |
| 856 | 4 | 2 | |m DNB Datenaustausch |q application/pdf |u http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=006481532&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |3 Inhaltsverzeichnis |
| 943 | 1 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-006481532 | |
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1807324090963329024 |
|---|---|
| adam_text |
INHALT
1.
EINLEITUNG
1.1.
HISTORISCHES
.
1
1.2.
EIGENSCHAFTEN
VON
SIC
.
1
1.4.
EPITAXIE
VON
SIC
.
5
2.
MATERIALHERSTELLUNG
2.1.
SUBSTRATE
.
8
2.1.1.
HERSTELLUNG
.
8
2.1.2.
PRAEPARATION
VON
SUBSTRATEN
FUER
EPITAXIE
MIT
CVD
.
9
2.2.
EPITAXIE-APPARATUR
.
11
2.2.1.
GASVERSORGUNG/REGELUNG
.
11
2.2.2.
REAKTIONSSYSTEM/HEIZUNG
.
14
2.3.
STANDARD-PROZESS
.
17
2.4.
DOTIERUNG
DER
SCHICHTEN
.
19
2.4.1.
N-DOTIERUNG
.
19
2.4.2.
P-DOTIERUNG
.
20
2.5.
HERGESTELLTE
PROBEN
.
21
3.
EINFLUESSE
DER
WACHSTUMSPARAMETER
AUF
DAS
SCHICHTWACHSTUM
UND
DIE
PHYSIKALISCHEN
EIGENSCHAFTEN
DER
EPITAXIESCHICHTEN
3.1.
SUBSTRAT-EIGENSCHAFTEN
.
25
3.2.
TEMPERATUR
.
28
3.3.
ARBEITSGASFLUESSE
.
29
3.4.
TRAEGERGASE
.
30
3.5.
DOTIERUNG
.
32
4.
PROZESSANALYSE
4.1.
SIMULATIONSRECHNUNGEN
.
34
4.1.1.
TEMPERATUR
IM
SUSZEPTOR
.
36
4.1.2.
BEDINGUNGEN
IM
GESAMTEN
REAKTOR
.
39
4.1.2.1.
ALTE
GEOMETRIE
.
39
4.1.2.2.
NEUE
GEOMETRIE
.
42
4.1.2.2.1.
STANDARDPROZESS
.
43
4.1.2.2.2.
MISCHTRAEGERGASE
.
46
4.I.2.2.3.
VERSCHIEDENE
SUSZEPTORTEMPERATUREN
.
47
4.1.2.2.4.
VARIATIONEN
ZUR
UNTERDRUECKUNG
DER
WIRBELBILDUNG
.
51
4.I.2.2.4.I.
SKALIERUNG
DER
GROESSE
.
51
4.
1.2.2.4.2.
GASFLUSS
.
53
4.1.3.
DISKUSSION
WEITERER
GEOMETRIEN
.
56
4.1.3.1.
COLD-WALL
UND
HOT-WALL-TYP
.
56
4.1.3.2.
MODIFIKATIONEN
DER
REALEN
GEOMETRIE
.
57
4.2.
CHEMIE
DER
GASPHASE
UND
WACHSTUMSGRENZE:
WASSERSTOFF
ALS
TRAEGERGAS
.
59
4.2.1.
STOECHIOMETRIEPROBLEM
.
59
4.2.1.1.
KOHLENSTOFFBILANZ
DER
GASPHASE
.
59
4.2.1.2.
C-H-SCHWINGUNGEN
.
69
4.2.1.3.
SI-H-SCHWINGUNGEN
.
73
4.2.2.
CHEMIE
DER
TRAEGERGASE
.
73
4.2.2.1.
WASSERSTOFF-AETZE
.
73
4.2.2.2.
MISCHTRAEGERGASSYSTEME
.
75
4.3.
MASSENSPEKTROMETRIE
.
79
5.
CHARAKTERISIERUNG
DER
EPITAXIESCHICHTEN
5.1.
SCHICHTDICKENBESTIMMUNG
.
84
5.2.
OBERFLAECHENTNORPHOLOGIE
.
86
5.2.1
.OBERFLAECHEN
NACH
EPITAKTISCHEM
SCHICHTWACHSTUM
.
86
5.2.2
WASSERSTOFF-AETZE
.
89
5.3.
SEKUNDAER-IONEN
MASSENSPEKTROMETRIE
(SIMS-)
MESSUNGEN
.
91
5.4.
ELEKTRISCHE
MESSUNGEN
.
93
5.4.1
.KAPAZITAETS-MESSUNGEN
.
94
5.4.2.HALL-EFFEKT-MESSUNGEN
.
95
5.4.4.SPREADING
RESISTANCE
MESSUNGEN
.
96
5.5.
PHOTOLUMINESZENZ
.
99
6.
PN-DIODEN
6.1.
PROZESSIERUNG
.
101
6.1.1.
MESA-STRUKTURIERUNG
.102
6.1.2.
PASSIVIERUNG
.104
6.2.
CHARAKTERISIERUNG
.
105
6.2.1.
ERGEBNISSE
DER
J-V-MESSUNGEN
.
105
6.2.2.
TEMPERATURABHAENGIGKEIT
DES
SPERRSTROMS
.
107
7.
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
108
LITERATURVERZEICHNIS
111 |
| any_adam_object | 1 |
| author | Rottner, Kurt 1966- |
| author_GND | (DE-588)114412685 |
| author_facet | Rottner, Kurt 1966- |
| author_role | aut |
| author_sort | Rottner, Kurt 1966- |
| author_variant | k r kr |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV009797008 |
| classification_rvk | UP 7550 |
| classification_tum | ELT 280d FER 882d ELT 072d |
| ctrlnum | (OCoLC)75535756 (DE-599)BVBBV009797008 |
| discipline | Physik Elektrotechnik Fertigungstechnik |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>00000nam a2200000 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV009797008</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">19980302</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">940908s1994 ad|| m||| 00||| gerod</controlfield><datafield tag="016" ind1="7" ind2=" "><subfield code="a">942204506</subfield><subfield code="2">DE-101</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)75535756</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV009797008</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-29</subfield><subfield code="a">DE-29T</subfield><subfield code="a">DE-12</subfield><subfield code="a">DE-703</subfield><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-83</subfield><subfield code="a">DE-11</subfield><subfield code="a">DE-188</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">UP 7550</subfield><subfield code="0">(DE-625)146434:</subfield><subfield code="2">rvk</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ELT 280d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">FER 882d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ELT 072d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Rottner, Kurt</subfield><subfield code="d">1966-</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="0">(DE-588)114412685</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid</subfield><subfield code="c">vorgelegt von Kurt Rottner</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1994</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">III, 115 S.</subfield><subfield code="b">Ill., zahlr. graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1994</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Dünne Schicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4136925-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">CVD-Verfahren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4009846-1</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Epitaxieschicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4152546-2</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Siliciumcarbid</subfield><subfield code="0">(DE-588)4055009-6</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Siliciumcarbid</subfield><subfield code="0">(DE-588)4055009-6</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">CVD-Verfahren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4009846-1</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Epitaxieschicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4152546-2</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Siliciumcarbid</subfield><subfield code="0">(DE-588)4055009-6</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Dünne Schicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4136925-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="2"><subfield code="a">CVD-Verfahren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4009846-1</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2="2"><subfield code="m">DNB Datenaustausch</subfield><subfield code="q">application/pdf</subfield><subfield code="u">http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=006481532&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA</subfield><subfield code="3">Inhaltsverzeichnis</subfield></datafield><datafield tag="943" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-006481532</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV009797008 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-08-14T01:22:46Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-006481532 |
| oclc_num | 75535756 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-29 DE-29T DE-12 DE-703 DE-355 DE-BY-UBR DE-91 DE-BY-TUM DE-83 DE-11 DE-188 |
| owner_facet | DE-29 DE-29T DE-12 DE-703 DE-355 DE-BY-UBR DE-91 DE-BY-TUM DE-83 DE-11 DE-188 |
| physical | III, 115 S. Ill., zahlr. graph. Darst. |
| publishDate | 1994 |
| publishDateSearch | 1994 |
| publishDateSort | 1994 |
| record_format | marc |
| spelling | Rottner, Kurt 1966- Verfasser (DE-588)114412685 aut Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid vorgelegt von Kurt Rottner 1994 III, 115 S. Ill., zahlr. graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1994 Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd rswk-swf CVD-Verfahren (DE-588)4009846-1 gnd rswk-swf Epitaxieschicht (DE-588)4152546-2 gnd rswk-swf Siliciumcarbid (DE-588)4055009-6 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Siliciumcarbid (DE-588)4055009-6 s CVD-Verfahren (DE-588)4009846-1 s Epitaxieschicht (DE-588)4152546-2 s DE-604 Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 s DNB Datenaustausch application/pdf http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=006481532&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA Inhaltsverzeichnis |
| spellingShingle | Rottner, Kurt 1966- Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd CVD-Verfahren (DE-588)4009846-1 gnd Epitaxieschicht (DE-588)4152546-2 gnd Siliciumcarbid (DE-588)4055009-6 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4136925-7 (DE-588)4009846-1 (DE-588)4152546-2 (DE-588)4055009-6 (DE-588)4113937-9 |
| title | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid |
| title_auth | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid |
| title_exact_search | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid |
| title_full | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid vorgelegt von Kurt Rottner |
| title_fullStr | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid vorgelegt von Kurt Rottner |
| title_full_unstemmed | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid vorgelegt von Kurt Rottner |
| title_short | Gasphasen-Epitaxie von Siliziumkarbid |
| title_sort | gasphasen epitaxie von siliziumkarbid |
| topic | Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd CVD-Verfahren (DE-588)4009846-1 gnd Epitaxieschicht (DE-588)4152546-2 gnd Siliciumcarbid (DE-588)4055009-6 gnd |
| topic_facet | Dünne Schicht CVD-Verfahren Epitaxieschicht Siliciumcarbid Hochschulschrift |
| url | http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=006481532&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |
| work_keys_str_mv | AT rottnerkurt gasphasenepitaxievonsiliziumkarbid |