Papers from the Second International Workshop on the Measurement and Characterization of Ultra-Shallow Doping Profiles in Semiconductors: 23 - 25 March 1993, MCNC, Center for Microelectronics Research Triangle Park, North Carolina
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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Workshop on the Measurement and Characterization of Ultra Shallow Doping Profiles in Semiconductors Research Triangle Park, NC (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: New York American Institute of Physics 1994
Schriftenreihe:Journal of vacuum science and technology / B 12,1
Schlagworte:
Beschreibung:Stücktitelaufnahme zu e. Zeitschriftenh.
Beschreibung:S. 163 - 404 graph. Darst.

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