Kretzer, O. (1993). Formierung flacher Dotierschichten in Silizium durch Niederenergieionenimplantation und Laserimpulsbestrahlung.
Chicago Style (17th ed.) CitationKretzer, Olaf. Formierung Flacher Dotierschichten in Silizium Durch Niederenergieionenimplantation Und Laserimpulsbestrahlung. 1993.
MLA (9th ed.) CitationKretzer, Olaf. Formierung Flacher Dotierschichten in Silizium Durch Niederenergieionenimplantation Und Laserimpulsbestrahlung. 1993.
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