APA (7th ed.) Citation

Neidig, A., Wahl, G., & Weimann, K. (1978). Technologie der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen mit Silikatglas-Passivierung. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Neidig, Arno, Georg Wahl, and Klaus Weimann. Technologie Der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen Mit Silikatglas-Passivierung. Eggenstein-Leopoldshafen: Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1978.

MLA (9th ed.) Citation

Neidig, Arno, et al. Technologie Der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen Mit Silikatglas-Passivierung. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1978.