In-situ-Bestimmung der elektronischen Oberflächen- und Volumendefektdichte von amorphem Silizium (a-Si: H) und verwandten Legierungen:
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| Veröffentlicht: |
1992
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| Beschreibung: | Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1992. - Auch als: Berichte des Forschungszentrums Jülich, 2643. |
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