Modelling der physikalischen Prozesse bei der Rekristallisation von dünnen Siliziumschichten:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Hu, Bo (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1993
Schlagworte:
Beschreibung:III, 101 S. Ill., graph. Darst.

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