Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren:
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Aachen
Shaker
1993
|
Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
Schriftenreihe: | Reihe Werkstofftechnik
|
Schlagworte: | |
Beschreibung: | Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss. |
Beschreibung: | II, 139 S. Ill., graph. Darst. |
ISBN: | 3861117053 |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV008320114 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 19950217 | ||
007 | t | ||
008 | 931101s1993 gw ad|| m||| 00||| ger d | ||
020 | |a 3861117053 |9 3-86111-705-3 | ||
035 | |a (OCoLC)75432322 | ||
035 | |a (DE-599)BVBBV008320114 | ||
040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
041 | 0 | |a ger | |
044 | |a gw |c DE | ||
049 | |a DE-91G | ||
084 | |a FER 882d |2 stub | ||
084 | |a DAT 780d |2 stub | ||
100 | 1 | |a Guan, Wei |e Verfasser |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren |c Wei Guan |
250 | |a Als Ms. gedr. | ||
264 | 1 | |a Aachen |b Shaker |c 1993 | |
300 | |a II, 139 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b n |2 rdamedia | ||
338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
490 | 0 | |a Reihe Werkstofftechnik | |
500 | |a Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss. | ||
650 | 0 | 7 | |a Prozesssimulation |0 (DE-588)4176077-3 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Magnetronsputtern |0 (DE-588)4208514-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Ionenplattieren |0 (DE-588)4162334-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
689 | 0 | 0 | |a Ionenplattieren |0 (DE-588)4162334-4 |D s |
689 | 0 | 1 | |a Magnetronsputtern |0 (DE-588)4208514-7 |D s |
689 | 0 | 2 | |a Prozesssimulation |0 (DE-588)4176077-3 |D s |
689 | 0 | |5 DE-604 | |
999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-005497194 |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1804122714484506624 |
---|---|
any_adam_object | |
author | Guan, Wei |
author_facet | Guan, Wei |
author_role | aut |
author_sort | Guan, Wei |
author_variant | w g wg |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV008320114 |
classification_tum | FER 882d DAT 780d |
ctrlnum | (OCoLC)75432322 (DE-599)BVBBV008320114 |
discipline | Informatik Fertigungstechnik |
edition | Als Ms. gedr. |
format | Book |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01454nam a2200421 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV008320114</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">19950217 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">931101s1993 gw ad|| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="020" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">3861117053</subfield><subfield code="9">3-86111-705-3</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)75432322</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV008320114</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="044" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">gw</subfield><subfield code="c">DE</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-91G</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">FER 882d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DAT 780d</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Guan, Wei</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren</subfield><subfield code="c">Wei Guan</subfield></datafield><datafield tag="250" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Als Ms. gedr.</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Aachen</subfield><subfield code="b">Shaker</subfield><subfield code="c">1993</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">II, 139 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">Reihe Werkstofftechnik</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss.</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Prozesssimulation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4176077-3</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Magnetronsputtern</subfield><subfield code="0">(DE-588)4208514-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Ionenplattieren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4162334-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Ionenplattieren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4162334-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Magnetronsputtern</subfield><subfield code="0">(DE-588)4208514-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Prozesssimulation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4176077-3</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-005497194</subfield></datafield></record></collection> |
genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
genre_facet | Hochschulschrift |
id | DE-604.BV008320114 |
illustrated | Illustrated |
indexdate | 2024-07-09T17:18:16Z |
institution | BVB |
isbn | 3861117053 |
language | German |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-005497194 |
oclc_num | 75432322 |
open_access_boolean | |
owner | DE-91G DE-BY-TUM |
owner_facet | DE-91G DE-BY-TUM |
physical | II, 139 S. Ill., graph. Darst. |
publishDate | 1993 |
publishDateSearch | 1993 |
publishDateSort | 1993 |
publisher | Shaker |
record_format | marc |
series2 | Reihe Werkstofftechnik |
spelling | Guan, Wei Verfasser aut Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren Wei Guan Als Ms. gedr. Aachen Shaker 1993 II, 139 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Reihe Werkstofftechnik Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss. Prozesssimulation (DE-588)4176077-3 gnd rswk-swf Magnetronsputtern (DE-588)4208514-7 gnd rswk-swf Ionenplattieren (DE-588)4162334-4 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Ionenplattieren (DE-588)4162334-4 s Magnetronsputtern (DE-588)4208514-7 s Prozesssimulation (DE-588)4176077-3 s DE-604 |
spellingShingle | Guan, Wei Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren Prozesssimulation (DE-588)4176077-3 gnd Magnetronsputtern (DE-588)4208514-7 gnd Ionenplattieren (DE-588)4162334-4 gnd |
subject_GND | (DE-588)4176077-3 (DE-588)4208514-7 (DE-588)4162334-4 (DE-588)4113937-9 |
title | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren |
title_auth | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren |
title_exact_search | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren |
title_full | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren Wei Guan |
title_fullStr | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren Wei Guan |
title_full_unstemmed | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren Wei Guan |
title_short | Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren |
title_sort | numerische modelle zur prozeßsimulation und magnetfeldberechnung im magnetron sputter ion plating physical vapour deposition verfahren |
topic | Prozesssimulation (DE-588)4176077-3 gnd Magnetronsputtern (DE-588)4208514-7 gnd Ionenplattieren (DE-588)4162334-4 gnd |
topic_facet | Prozesssimulation Magnetronsputtern Ionenplattieren Hochschulschrift |
work_keys_str_mv | AT guanwei numerischemodellezurprozeßsimulationundmagnetfeldberechnungimmagnetronsputterionplatingphysicalvapourdepositionverfahren |