Numerische Modelle zur Prozeßsimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Guan, Wei (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Aachen Shaker 1993
Ausgabe:Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:Reihe Werkstofftechnik
Schlagworte:
Beschreibung:Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss.
Beschreibung:II, 139 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:3861117053

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