Handbook of chemical vapor deposition (CVD): principles, technology, and applications
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Pierson, Hugh O. (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Park Ridge, NJ Noyes 1992
Schriftenreihe:Materials science and process technology series
Schlagworte:
Beschreibung:XXII, 436 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0815513003

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!