Chemical vapor deposition: principles and applications
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: London u.a. Academic Press u.a. 1993
Schlagworte:
Beschreibung:V, 677 S. Ill., zahlr. graph. Darst.
ISBN:0123496705

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