X-ray diffraction at elevated temperatures: a method for in situ process analysis
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: New York, NY u.a. VCH 1993
Schlagworte:
Beschreibung:VIII, 268 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:3527278427
0895737450

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