Selektive Silizium-Niederdruckepitaxie:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Voss, Heinz-Jürgen (VerfasserIn), Kürten, Hans (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Eggenstein-Leopoldshafen Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1985
Ausgabe:Als Ms. gedr.
Schlagworte:
Beschreibung:Zsfassung in engl. Sprache. - PST: Selective low-pressure silicon epitaxy
Beschreibung:89 S. zahlr. Ill. u. graph. Darst.

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