Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten:
Gespeichert in:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Eggenstein-Leopoldshafen
1985
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| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | Zsfassung in engl. Sprache. - PST: Analytics of dielectric layers for VLSI applications, especially influence of stoichometry and hydrogen content on the properties of plasma nitride layers |
| Beschreibung: | 101 S. zahlr. graph. Darst. |
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