Untersuchung der atomaren Rauhigkeit der Si-SiO2-Grenzfläche sowie ihr Einfluß auf die Beweglichkeit in MOS-Transistoren:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Hahn, Peter Otto (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1982
Schlagworte:
Beschreibung:141 S. Ill., graph. Darst.

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