Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen: Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater)
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Eggenstein-Leopoldshafen
Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik
1981
|
Schriftenreihe: | Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 -
81,19 |
Schlagworte: | |
Beschreibung: | 103 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nam a2200000 cb4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV007556204 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 00000000000000.0 | ||
007 | t | ||
008 | 930421s1981 ad|| |||| 00||| ger d | ||
035 | |a (OCoLC)46049859 | ||
035 | |a (DE-599)BVBBV007556204 | ||
040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
041 | 0 | |a ger | |
049 | |a DE-355 |a DE-210 | ||
100 | 1 | |a Fehling, Heino |e Verfasser |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen |b Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
246 | 1 | 3 | |a Report-Nummer BMFT-FB-T 81-019 |
264 | 1 | |a Eggenstein-Leopoldshafen |b Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik |c 1981 | |
300 | |a 103 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b n |2 rdamedia | ||
338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
490 | 1 | |a Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 - |v 81,19 | |
650 | 0 | 7 | |a Siliciumhalbleiter |0 (DE-588)4274465-9 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Wafer |0 (DE-588)4294605-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
655 | 7 | |a Direkte Step-Repeattechnik |2 gnd |9 rswk-swf | |
689 | 0 | 0 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |D s |
689 | 0 | 1 | |a Wafer |0 (DE-588)4294605-0 |D s |
689 | 0 | 2 | |a Siliciumhalbleiter |0 (DE-588)4274465-9 |D s |
689 | 0 | 3 | |a Direkte Step-Repeattechnik |A f |
689 | 0 | |5 DE-604 | |
689 | 1 | 0 | |a Fotolithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4174516-4 |D s |
689 | 1 | 1 | |a Wafer |0 (DE-588)4294605-0 |D s |
689 | 1 | 2 | |a Siliciumhalbleiter |0 (DE-588)4274465-9 |D s |
689 | 1 | |5 DE-604 | |
810 | 2 | |a Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 - |t Deutschland <Bundesrepublik> |v 81,19 |w (DE-604)BV000004400 |9 81,19 | |
999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004927415 |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1804121856549060608 |
---|---|
any_adam_object | |
author | Fehling, Heino |
author_facet | Fehling, Heino |
author_role | aut |
author_sort | Fehling, Heino |
author_variant | h f hf |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV007556204 |
ctrlnum | (OCoLC)46049859 (DE-599)BVBBV007556204 |
format | Book |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01870nam a2200433 cb4500</leader><controlfield tag="001">BV007556204</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">00000000000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">930421s1981 ad|| |||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)46049859</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV007556204</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-210</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Fehling, Heino</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen</subfield><subfield code="b">Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater)</subfield></datafield><datafield tag="246" ind1="1" ind2="3"><subfield code="a">Report-Nummer BMFT-FB-T 81-019</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Eggenstein-Leopoldshafen</subfield><subfield code="b">Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik</subfield><subfield code="c">1981</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">103 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 -</subfield><subfield code="v">81,19</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Siliciumhalbleiter</subfield><subfield code="0">(DE-588)4274465-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Wafer</subfield><subfield code="0">(DE-588)4294605-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Direkte Step-Repeattechnik</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Wafer</subfield><subfield code="0">(DE-588)4294605-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Siliciumhalbleiter</subfield><subfield code="0">(DE-588)4274465-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">Direkte Step-Repeattechnik</subfield><subfield code="A">f</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Fotolithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174516-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Wafer</subfield><subfield code="0">(DE-588)4294605-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="2"><subfield code="a">Siliciumhalbleiter</subfield><subfield code="0">(DE-588)4274465-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="810" ind1="2" ind2=" "><subfield code="a">Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 -</subfield><subfield code="t">Deutschland <Bundesrepublik></subfield><subfield code="v">81,19</subfield><subfield code="w">(DE-604)BV000004400</subfield><subfield code="9">81,19</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004927415</subfield></datafield></record></collection> |
genre | Direkte Step-Repeattechnik gnd |
genre_facet | Direkte Step-Repeattechnik |
id | DE-604.BV007556204 |
illustrated | Illustrated |
indexdate | 2024-07-09T17:04:38Z |
institution | BVB |
language | German |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004927415 |
oclc_num | 46049859 |
open_access_boolean | |
owner | DE-355 DE-BY-UBR DE-210 |
owner_facet | DE-355 DE-BY-UBR DE-210 |
physical | 103 S. Ill., graph. Darst. |
publishDate | 1981 |
publishDateSearch | 1981 |
publishDateSort | 1981 |
publisher | Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik |
record_format | marc |
series2 | Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 - |
spelling | Fehling, Heino Verfasser aut Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) Report-Nummer BMFT-FB-T 81-019 Eggenstein-Leopoldshafen Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1981 103 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 - 81,19 Siliciumhalbleiter (DE-588)4274465-9 gnd rswk-swf Wafer (DE-588)4294605-0 gnd rswk-swf Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd rswk-swf Direkte Step-Repeattechnik gnd rswk-swf Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 s Wafer (DE-588)4294605-0 s Siliciumhalbleiter (DE-588)4274465-9 s Direkte Step-Repeattechnik f DE-604 Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 81,1 - Deutschland <Bundesrepublik> 81,19 (DE-604)BV000004400 81,19 |
spellingShingle | Fehling, Heino Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) Siliciumhalbleiter (DE-588)4274465-9 gnd Wafer (DE-588)4294605-0 gnd Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd |
subject_GND | (DE-588)4274465-9 (DE-588)4294605-0 (DE-588)4174516-4 |
title | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_alt | Report-Nummer BMFT-FB-T 81-019 |
title_auth | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_exact_search | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_full | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_fullStr | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_full_unstemmed | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
title_short | Neue photolithographische Verfahren für kleine Strukturen |
title_sort | neue photolithographische verfahren fur kleine strukturen direktes step und repeatverfahren auf der siliziumscheibe silicon repeater |
title_sub | Direktes Step- und Repeatverfahren auf der Siliziumscheibe (Silicon-Repeater) |
topic | Siliciumhalbleiter (DE-588)4274465-9 gnd Wafer (DE-588)4294605-0 gnd Fotolithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4174516-4 gnd |
topic_facet | Siliciumhalbleiter Wafer Fotolithografie Halbleitertechnologie Direkte Step-Repeattechnik |
volume_link | (DE-604)BV000004400 |
work_keys_str_mv | AT fehlingheino neuephotolithographischeverfahrenfurkleinestrukturendirektesstepundrepeatverfahrenaufdersiliziumscheibesiliconrepeater AT fehlingheino reportnummerbmftfbt81019 |