Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
1978
|
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | Dortmund, Diss., 1979 |
| Beschreibung: | 132 S. graph. Darst. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV007541638 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 00000000000000.0 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 930421s1978 d||| m||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)52628355 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV007541638 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-355 |a DE-29T | ||
| 100 | 1 | |a Schneider, Joachim |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| 264 | 1 | |c 1978 | |
| 300 | |a 132 S. |b graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 500 | |a Dortmund, Diss., 1979 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a MOS-Schaltung |0 (DE-588)4135571-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a CMOS |0 (DE-588)4010319-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a CMOS |0 (DE-588)4010319-5 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 689 | 1 | 0 | |a MOS-Schaltung |0 (DE-588)4135571-4 |D s |
| 689 | 1 | 1 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |D s |
| 689 | 1 | |5 DE-604 | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004914202 | ||
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804121838268186624 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Schneider, Joachim |
| author_facet | Schneider, Joachim |
| author_role | aut |
| author_sort | Schneider, Joachim |
| author_variant | j s js |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV007541638 |
| ctrlnum | (OCoLC)52628355 (DE-599)BVBBV007541638 |
| format | Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01231nam a2200373 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV007541638</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">00000000000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">930421s1978 d||| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)52628355</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV007541638</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-29T</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Schneider, Joachim</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1978</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">132 S.</subfield><subfield code="b">graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Dortmund, Diss., 1979</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">MOS-Schaltung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4135571-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">CMOS</subfield><subfield code="0">(DE-588)4010319-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">CMOS</subfield><subfield code="0">(DE-588)4010319-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">MOS-Schaltung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4135571-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004914202</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV007541638 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T17:04:20Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-004914202 |
| oclc_num | 52628355 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-355 DE-BY-UBR DE-29T |
| owner_facet | DE-355 DE-BY-UBR DE-29T |
| physical | 132 S. graph. Darst. |
| publishDate | 1978 |
| publishDateSearch | 1978 |
| publishDateSort | 1978 |
| record_format | marc |
| spelling | Schneider, Joachim Verfasser aut Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation 1978 132 S. graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Dortmund, Diss., 1979 Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd rswk-swf MOS-Schaltung (DE-588)4135571-4 gnd rswk-swf CMOS (DE-588)4010319-5 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content CMOS (DE-588)4010319-5 s Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 s DE-604 MOS-Schaltung (DE-588)4135571-4 s |
| spellingShingle | Schneider, Joachim Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd MOS-Schaltung (DE-588)4135571-4 gnd CMOS (DE-588)4010319-5 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4027606-5 (DE-588)4135571-4 (DE-588)4010319-5 (DE-588)4113937-9 |
| title | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_auth | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_exact_search | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_full | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_fullStr | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_full_unstemmed | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_short | Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation |
| title_sort | eine kombinierte cmos bipolar technologie unter wesentlicher nutzung der ionenimplantation |
| topic | Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd MOS-Schaltung (DE-588)4135571-4 gnd CMOS (DE-588)4010319-5 gnd |
| topic_facet | Ionenimplantation MOS-Schaltung CMOS Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT schneiderjoachim einekombiniertecmosbipolartechnologieunterwesentlichernutzungderionenimplantation |