Neidig, A., Wahl, G., & Weimann, K. (1977). Technologie der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen mit Silikatglas-Passivierung. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Neidig, Arno, Georg Wahl, und Klaus Weimann. Technologie Der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen Mit Silikatglas-Passivierung. Eggenstein: Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1977.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Neidig, Arno, et al. Technologie Der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen Mit Silikatglas-Passivierung. Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik, 1977.
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